【半導体製造向け】高発生力＆高精度ピエゾリニアステージ
ピエゾWalk駆動、ナノメートル精度、半導体製造の位置決めに
半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの位置決め能力が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素となります。位置決めの精度が低いと、製造不良や検査エラーが発生し、コスト増につながる可能性があります。当社の高発生力＆高精度ピエゾリニアステージ N-332は、ピエゾWalkドライブにより、ナノメートル精度での位置決めを実現し、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製造プロセスの効率化 ・製品品質の安定化
- 企業：PIジャパン株式会社
- 価格：応相談
