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樹脂・プラスチック
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株式会社ニューメタルス エンド ケミカルス コーポレーション

住所東京都中央区京橋1-2-5 京橋TDビル5階
電話03-5202-5624
  • 公式サイト
最終更新日:2020/09/07
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ニューメタルス エンド ケミカルス コーポレーションの製品・サービス一覧

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HONGWU INTERNATIONAL GROUPのご紹介

製造技術の最適化と品質向上に努め、市場と顧客ニーズに合致した製品開発を行っています

ナノ素材の専門メーカーであるHONGWU INTERNATIONAL GROUPについて ご紹介します。 同社は、20年の製造実績を持つナノテク技術集団です。 製造拠点を江蘇省徐州に、セールスオフィスを広東省広州に置いております。 博士号を持つ9人の科学者を含む35人の熟練した技術者を有し、清華大学や 浙江大学等、一流大学との共同研究や国立研究機関とのコラボレーション により製造技術の最適化と品質向上に努め、市場と顧客ニーズに合致した 製品開発を行っています。 【HONGWU INTERNATIONAL GROUPの製造品目】 ■種々のナノ素材(10~100nm, as requested) ■ナノ粉末:金属、酸化物、炭素系、複合材料 ■ナノワイヤー及びウィスカー ■分散液 ■カスタマイズ品の委託製造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • その他高分子材料

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ナノダイヤモンド粉末『MPHF』

高温高圧法+破砕整形+先端分級テクノロジー!高強度でシャープな粒度分布です

『MPHF』は、高温高圧法よる高品質な単結晶ダイヤモンド粉末を原料とし、 破砕・整形~不純物除去~洗浄~分級~乾燥まで先端テクノロジーを 駆使して作り上げたナノダイヤモンド粉末です。 特殊な洗浄プロセスにより分散性良好。 優れた耐摩耗性及び耐腐食性が特長です。 【特長】 ■高強度 ■シャープな粒度分布 ■特殊な洗浄プロセスにより分散性良好 ■優れた耐摩耗性及び耐腐食性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他高分子材料

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絶縁性放熱材料『窒化ホウ素ナノチューブ(BNNT)』

耐熱性・難燃性に優れ、電気絶縁性を持つコンパウンド材。樹脂製品の強度強化をはじめ、難燃性・耐腐食性などの特性を付与可能。

『窒化ホウ素ナノチューブ(BNNT)』は、カーボンナノチューブ(CNT)と同じ 構造を持つ絶縁性放熱材料です。 化学的に安定しており、耐熱性・難燃性にも優れています。 また、窒化ホウ素ナノチューブの周囲に 六⽅晶系窒化ホウ素(h-BN)を纏わせた“BN NanoBarbs”を 独自に供給しております。 応用製品として、プラスチックにコンパウンドしたマスターバッチや、 アルミ・銅などの金属に分散させたマスターアロイも展開しております。 コンマ%の添加量で、引張強度などの向上が見られます。 【特長】 ■化学的に安定 ■優れた耐熱性 ■優れた難燃性 ■高強度 ■高い熱伝導性 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他高分子材料

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カーボンナノチューブ『高純度SWNT』

ユーザーの要求するCNTをカスタマイズ可能!

『SWNT』は、中国科学院成都有機化学研究所の技術をベースに設立されたNTP社のカーボンナノチューブです。 通称のCVD法では供給が困難なSWNTの高純度品を安定して供給しています。 沸騰法により特殊媒体をリサイクルさせつつCNTの連続大量生産も可能。 MWNTはもちろん、DWNTやTWNTも選択的に製造可能で、径の制御のみ ならず長さの制御も行っています。 【特長】 ■高品質のSWNTの供給が可能 ■MWNT、DWNTやTWNTも選択的に製造可能 ■沸騰法を採用 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他 バイオ素材
  • その他 医療用品・化粧品製造材料

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グラフェン『単結晶グラフェン』

単結晶ドメインは1mm以上も可能!グラフェンマスター社のグラフェン

『単結晶グラフェン』は、任意の基板に転写でき、単層から複層まで基板 への全面転写技術を有するオランダのグラフェンマスター社のグラフェン です。 前処理済みグラフェンを使用目的に応じて加工したり、標準品として h-BN・TEMグリッド・クオーツ等の基板上の単結晶グラフェンの製造も 行っております。 任意の基板に転写可能で、単層から複層まで基板への全面転写も可能です。 【特長】 ■任意の基板に転写可能 ■単層から複層まで基板への全面転写も可能 ■前処理済みグラフェンを使用目的に応じて加工可能 ■標準品としてh-BN、TEMグリッド、クオーツ等の基板上の  単結晶グラフェンの供給可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 半導体・IC

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グラフェン『酸化グラフェン』

独自の黒鉛酸化法により、酸化グラフェンの効率的合成を達成!

『酸化グラフェン』は、水に溶け、加工が容易なグラフェン材料です。 300μサイズまでの単層酸化グラフェンが製造可能で、単層の含有率は90% 以上。 電気的に絶縁ですが、還元により導電性を得ることができます。 様々な種類やサイズの黒鉛原料から酸化グラフェンを合成する『機能付与 酸化グラフェン』も掲載しています。 【特長】 ■水に溶けて加工が容易 ■単層の含有率は90%以上を誇る ■還元により導電性を得ることが可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 半導体・IC

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グラフェン・シート『単層グラフェン膜』

ポストシリコン用途を初め、多岐に渡る用途が見込まれるグラフェン!

『単層グラフェン膜』は、CVD法で世界最高レベルのグラフェン・シート を製造しているスペインのGraphenea社のグラフェン・シートです。 注目製品は2cm角SiO2基板上の1.5cm角の単層グラフェン。サイズや基板 の種類はご要望に応じます。 また、2層、3層以上のグラフェンも合成可能です。 ポストシリコン以外にも多岐に渡る用途が見込まれる製品ですので、 ぜひ今後の研究の一助にご検討下さい。 【特長】 ■ユーザー要求に応じてカスタマイズ可能 ■2層、3層以上のグラフェンも合成可能 ■多岐に渡る用途に対応が見込まれる ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 半導体・IC

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鱗片状グラフェン粉末(乾粉)

インジウム・スズ酸化物(ITO)電極の代替品となるシート状炭素材料です。

米国のXG Sciences社が開発したグラフェン・ナノプレートレットは複数のグラフェンシートが積み重なった構造をしている粉末状ナノ素材です。Cグレードは層厚2ナノ以下、エリアサイズは2μ以下、Mグレードは層厚6〜8ナノ、エリアサイズは5, 15, 25μ等選択可能。より厚いHグレードもあります。周囲のエッジ部に官能基を導入したり、表面に界面処理剤を施すことによりマトリックスとの親和性を高めることができます。

  • 繊維

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マルチウォール カーボンナノチューブ

高純度、径、長さの制御されたカーボンナノチューブ多数

径、長さの制御された高純度のCNTを多数取り揃えております。お問い合わせ下さい。

  • その他金属材料

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ダブルウォール・カーボンナノチューブ

径5ナノ以下、長さの制御も可能です。

高純度で長さの制御も可能。

  • その他金属材料

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シングルウォール カーボンナノチューブ

高純度で、モフォロジーの良いシングルウォールカーボンナノチューブ

従来CVD法では困難とされていたシングルウォールカーボンナノチューブが 特殊触媒技術を駆使して可能となりました。長さの制御も可能です。 通常品は5〜15ミクロン長、ショートタイプは1〜5ミクロン長。

  • その他金属材料

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