壺坂電機株式会社
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照射強度を常用20mW/cm2で維持したい
ガラス基板を使用するフォトリソグラフィ工程で照射ムラを最小限に抑えたい
温度5℃～35℃、湿度80%以下の環境で使用したい
露光装置の消費電流を450VA以下に抑えたい
UV硬化を行いたい
簡易な露光焼付装置を使用したい
ガラス基板の露光焼付けを手軽に行いたい
上記以外
※この質問はイプロスによって自動で作成されました
UV露光装置UVL-3
壺坂電機株式会社
434KB
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