更新日： 集計期間:2025年11月19日～2025年12月16日
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各種フィルム基板にヒーター回路が形成できるフィルムヒーター材料です！
当社では、様々なフィルム基材上でのヒーターや回路が形成できる 厚膜ペーストを取り揃えています。 特に、高温用途向けに開発されたポリイミドベースのHTインクは 240°Cまでの均一加熱が可能です。 カーボン抵抗体、誘導体、銀導体をラインアップ。 また、PTCシリーズは、80～110℃の間にカットオフ温度を有する PTC (自己温度制御)機能をもつポリマーベースのペースト。 適合する銀導体と組み合わせることで、ポリマー基板上に 自己温調型ヒーターを設計することができます。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■HT602 ■HT603 ■HT702 ■HT802 ■PTC085 ■PTC105 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
均熱を最適化し、半導体製造の品質向上に貢献します。
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、温度管理が非常に重要です。特に、ウェーハや基板の均熱は、製造プロセスにおける歩留まりや製品性能に大きく影響します。温度ムラは、製品の品質低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社のシリコンラバーヒーターは、均熱性に優れ、精密な温度管理を実現することで、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの均熱 ・基板の均熱 ・半導体製造装置の温度管理 【導入の効果】 ・温度分布の均一化による品質向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
柔軟性に優れ、実験の温度管理をサポート。1枚から製作可能。
研究開発の現場では、実験の再現性と精度の向上が常に求められます。特に、温度管理は実験結果に大きな影響を与えるため、正確で安定した加熱が不可欠です。従来の加熱方法では、温度分布の偏りや、加熱対象の形状への適合性の問題がありました。シリコンラバーヒーターは、柔軟性があり、被加熱物の形状にフィットするため、均一な加熱を実現し、実験の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・温度管理が必要な実験 ・試作品の加熱 ・各種分析装置への組み込み 【導入の効果】 ・均一な温度分布の実現 ・実験の再現性向上 ・多様な形状への対応 ・短納期での納品
