更新日： 集計期間:2026年03月25日～2026年04月21日
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LNGプラントの液化維持に。凍結防止・プロセス保温用電気ヒーターケーブル
LNGプラントでは、配管やタンクの温度管理が重要です。特に、低温環境下での凍結防止は、プラントの安全な稼働と効率的な運用に不可欠です。温度管理が不十分な場合、配管の閉塞や機器の故障につながり、プラントの停止や操業コストの増加を招く可能性があります。BTVシリーズは、これらの課題に対し、確実な凍結防止とプロセス保温を提供します。 【活用シーン】 ・各種バルブや計器類の凍結防止 【導入の効果】 ・プラントの安定稼働 ・エネルギー効率の向上 ・メンテナンスコストの削減
有限会社AMKの技術資料をご紹介します。
有限会社AMKは、遠赤外線ヒーターと加熱装置の専門メーカーです。 多種多様な工業用加熱に適するヒーターを揃えています。 クリーン加熱やタクト運転・固定炉にはパネルヒーター、コンベアによる連続加熱にはストレートヒーター、細かく温調回路を取る場合や小型部品の加熱にはセラミックヒーター、保温や低温加熱の場合はスペースヒーターがあります。 加熱・硬化・乾燥には遠赤外線ヒーターがお役に立ちます。 【特徴】 ○加熱・乾燥・硬化・予熱・保温に効果的 ○放射波長は３μ以上の遠赤外領域 →高分子物質（３μから２０μに吸収体がある）である 塗料・プラスチック・ガラス・セラミック等の加熱に特に有効 ○熱放射率が高いので高効率・省エネルギーのヒーターです。 ○媒体無で直接被加熱物に作用し加熱するので、真空中でも加熱できる ○遠赤外線ヒ－タ－は、物体を加熱する場合、 表面と内部が殆ど均一に加熱できるため昇温時間が短く効率的 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
木製品塗装の実施例をご紹介します。
木製品塗装の実施例をご紹介します。 有限会社AMKは、遠赤外線ヒーターと加熱装置の専門メーカーです。 多種多様な工業用加熱に適するヒーターを揃えています。 クリーン加熱やタクト運転・固定炉にはパネルヒーター、コンベアによる連続加熱にはストレートヒーター、細かく温調回路を取る場合や小型部品の加熱にはセラミックヒーター、保温や低温加熱の場合はスペースヒーターがあります。 加熱・硬化・乾燥には遠赤外線ヒーターがお役に立ちます。 【実施例】 [処理物／遠赤外線加熱] ○白木に黄変防止塗料／ワーク温度 71℃×5分 ○木製時計台にウレタン塗料／ ワーク温度 熱風50℃×5分＋遠赤外線50℃×10分 ○緑色塗装済卓球台にラッカーエナメル塗布／ワーク温度 57℃×7分 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
金属塗装、プラスチック塗装の実施例をご紹介します。
金属塗装、プラスチック塗装の実施例をご紹介します。 有限会社AMKは、遠赤外線ヒーターと加熱装置の専門メーカーです。 多種多様な工業用加熱に適するヒーターを揃えています。 クリーン加熱やタクト運転・固定炉にはパネルヒーター、コンベアによる連続加熱にはストレートヒーター、細かく温調回路を取る場合や小型部品の加熱にはセラミックヒーター、保温や低温加熱の場合はスペースヒーターがあります。 加熱・硬化・乾燥には遠赤外線ヒーターがお役に立ちます。 【実施例】 [処理物／遠赤外線加熱] ○スチール棚にクリーム色塗料／ワーク温度140℃×5分 ○アルミ板にクリアー塗装／セッティング25分 ワーク温度145℃×5分 ○アルミ板にクリアー塗装＋アクリル塗装／ワーク温度190℃×3分 ○缶蓋に水性塗料／ワーク温度183℃×3分 ○アルミ製スキーストックに白色塗料／ワーク温度155℃×5分 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
蒸気からの切り替えでエネルギーコスト最大40％削減！プロセス保温に最適。
化学プラント業界では、製品の品質維持と安全な操業のために、配管やタンク内の温度管理が重要です。特に、高温または低温にさらされる物質の温度を一定に保つことは、プロセスの安定性、製品の品質、そして安全性の確保に不可欠です。温度管理が不十分な場合、製品の変質、設備の損傷、さらには重大な事故につながる可能性があります。当社の防爆オートトレース・ヒータは、これらの課題に対応し、安全かつ効率的な温度維持を実現します。 【活用シーン】 ・配管、タンクのプロセス保温 ・工業用防爆エリア 【導入の効果】 ・エネルギーコストの削減 ・安全性の向上 ・プロセスの安定化
均熱を最適化し、半導体製造の品質向上に貢献します。
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、温度管理が非常に重要です。特に、ウェーハや基板の均熱は、製造プロセスにおける歩留まりや製品性能に大きく影響します。温度ムラは、製品の品質低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社のシリコンラバーヒーターは、均熱性に優れ、精密な温度管理を実現することで、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの均熱 ・基板の均熱 ・半導体製造装置の温度管理 【導入の効果】 ・温度分布の均一化による品質向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
柔軟性に優れ、実験の温度管理をサポート。1枚から製作可能。
研究開発の現場では、実験の再現性と精度の向上が常に求められます。特に、温度管理は実験結果に大きな影響を与えるため、正確で安定した加熱が不可欠です。従来の加熱方法では、温度分布の偏りや、加熱対象の形状への適合性の問題がありました。シリコンラバーヒーターは、柔軟性があり、被加熱物の形状にフィットするため、均一な加熱を実現し、実験の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・温度管理が必要な実験 ・試作品の加熱 ・各種分析装置への組み込み 【導入の効果】 ・均一な温度分布の実現 ・実験の再現性向上 ・多様な形状への対応 ・短納期での納品
