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粒径0.1㎛の粒子を99.999％以上捕集！半導体⼯場におすすめ
『ミニプリーツ』は、半導体工場、半導体機器、電子光学関連産業の高清浄度が 要求される所に使用可能なフィルターです。 粒径0.1㎛の粒子を99.999％以上捕集、Clean RoomのCLASS 100以上の ときに適用します。 【特長】 ■粒径0.1㎛の粒子を99.999%以上捕集 ■Clean RoomのCLASS 100以上のとき適用 ■GEL–TypeのGasketに適用可能 ■耐食性Al Frame使用 ■Separator Typeの製品に比べ重量が軽い ■半導体／LCD製造ラインのFFU／EFU用フィルターに適用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
粒径0.3㎛の粒子を99.97％以上捕集！半導体、LCD、製薬などの製造工程に
『セパレーター(標準風量)』は、半導体工場、半導体機器、電子光学関連産業、 KGMP、HACCPに適合するフィルターです。 粒径0.3㎛の粒子を99.97％以上捕集、半導体、LCD、製薬などの 製造工程に適用します。 風速バランスは、偏差20％以内で気流が安定致します。 【特長】 ■粒径0.3㎛の粒子を99.97％以上捕集 ■半導体、LCD、製薬などの製造工程に適用 ■風速バランス–偏差20％以内で気流安定 ■耐食性Aluminum Frame 使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
粒径0.3㎛の粒子を99.97％以上捕集！処理⾵量が多いところに適合
『セパレーター(多風量)』は、半導体工場、半導体機器、 電子光学関連産業、KGMP、HACCPに適合するフィルターです。 粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集。 半導体、LCD、製薬などの製造工程に適用します。 風速バランスは、偏差20％以内で気流安定、処理風量が 多いところにご使用いただけます。 【特長】 ■粒径0.3㎛の粒子を99.97％以上捕集 ■半導体、LCD、製薬などの製造工程に適用 ■風速バランスは、偏差20％以内で気流安定 ■処理風量が多いところに適合 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体工場をはじめ、電子光学、製薬関連産業、ビルなど多重利用施設に適合
『セパレーター／ミニプリーツ』は、半導体工場、半導体機器、電子光学、 製薬関連産業、ビルなど多重利用施設に適合するフィルターです。 比色法65％、85％、95％の3種類を捕集。 HEPA FILTER前処理用に適用できます。 【特長】 ■比色法65％、85％、95％の3種類の捕集 ■HEPA FILTER前処理用に適用 ■Box Type Header Type ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
重量法85％捕集！半導体工場、電子光学、ビルなど多重利用施設に適合します。
『プレフィルター(標準)』は、半導体工場、半導体機器、電子光学、 製薬関連産業、ビルなど多重利用施設に適合するフィルターです。 重量法85％捕集、MEDIUM FILTER前処理用に適用。 【特長】 ■重量法85％捕集 ■MEDIUM FILTER前処理用に適用 ■Panel Pleat Type ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
耐熱ポリプロピレンの採用で優れた耐熱性を発揮！ゲル状異物の捕捉容量をアップ！流量特性も良好
『CEXATシリーズ』は構成材質に耐熱ポリプロピレン樹脂を採用し、 120℃の耐熱性を備えたフィルターカートリッジです。 温度条件による金属製フィルター・オールフッ素製フィルターご使用箇所への 代替え提案も可能です。 ハードパーティクルはもちろんゲル状異物濾過に有効と考えられる フィルターメディア内の空間を保持しつつ、フィルターメディアの 線径を細くしてゲル状異物の捕捉容量を増量。 濾過寿命も向上しています。 【特長】 ■100℃前後の高温下でのフィルター形状変化変形が起こりにくい ■絶対濾過精度表示の為、フィルターの選定が容易 ■対象異物の粒度分布が広いアプリケーションにも好適 ■密度勾配を有したフィルターメディア採用で、低圧損・高流量 ■各種形状をラインアップしているため、設備の変更不要 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
