◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験
- 企業:テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年09月17日~2025年10月14日
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ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験
加熱長は300mm×2ゾーン!過熱防止装置付き/CE認証品
『OSK 93TI151』は、バイオマス、セラミック、セメント、リチウム電池、 CVD、焼成、熱分解プロセス等に幅広く使える実験室及び小規模生産用 ロータリーキルンです。 原料投入部、回転機構、電気炉、回収部で構成され、連続運転可能。 炉心管内部全体の運転状況の観察が容易な石英観察口を装備。 加熱プログラムを記憶可能な温度調節器(2プログラム計30セグメント)を 2基内蔵しております。 【特長】 ■常用温度1000°C以下の運転に好適 ■1/4" Gas in/outポート及びKF25規格のタールガス排出用ポート付き ■炉心管が簡単に交換可能 ■真空工程対応の完璧なガスシーリング構造 ■最低回転速度(0.7rpm)でもスムーズで安定的に回転 ■熱分解用に使用する場合、後端部にコールドトラップと連結使用可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
炉内全域にむらのない熱風がゆき渡る循環方式設計。タイマーによる無人処理も可能
『ベーキング炉』の循環方式は炉内全域にむらのない熱風がゆき渡るよう 設計されています。 ベーキング特有の高温、長時間処理に応じた使い易さにするために 工場運搬用2台、処理用台車(耐熱トロッコ付)2台を使用。※別売り 自動温度調整により一般乾燥、焼付等にも兼用できます。 また、タイマーによる退社後の無人使用も可能な設計になっております。 【特長】 ■台車利用で高温、長時間処理に応じた使い易さを実現 ■炉内全域に熱風がゆき渡る循環方式設計 ■自動温度調整 ■タイマーによる無人使用も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
加熱長は300mm×3ゾーン!最低回転速度(0.7rpm)でもスムーズで安定的に回転
『OSK 93TI152』は、バイオマス、セラミック、セメント、リチウム電池、 CVD、焼成、熱分解プロセス等に幅広く使える実験室及び小規模生産用 ロータリーキルンです。 原料投入部、回転機構、電気炉、回収部で構成され、連続運転可能。 1/4" Gas in/outポート及びKF25規格のタールガス排出用ポート付き。 加熱プログラムを記憶可能な温度調節器(2プログラム計30セグメント)を 3基内蔵しております。 【特長】 ■常用温度1000°C以下の運転に好適 ■炉心管内部全体の運転状況の観察が容易な石英観察口を装備 ■炉心管が簡単に交換できる ■真空工程対応の完璧なガスシーリング構造 ■過熱防止装置付き/CE認証品 ■熱分解用に使用する場合、後端部にコールドトラップと連結使用可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
開き戸付き、ガス雰囲気使用の汎用チューブ炉です。
常用温度1000°C以下の運転に適します。 プログラマブルコントローラ内蔵。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます(800°Cで29~30°C)。 Kanthal発熱体により、優れた耐久性を持ちます。 ガス交換実験に適します。 セラミック製断熱材により、軽量且つ温度上昇速度が速い。 便利なデザインにより、試料のセットや取出しが容易。 加熱プログラムを5種類記憶可能な温度調節器(1プログラムに9セグメント)内蔵。 過熱防止装置付き/CE認証品。 半導体制御整流回路(SSR)とプログラム制御により、低ノイズ及び正確な温度制御(±1℃)を実現。 チューブサイズ:直径50/80/100/120mm。 チューブの材質:石英、セラミック、アルミナ、合金。
開き戸付き、ガス雰囲気使用の高温チューブ電気炉です。
常用温度1350°C以下の運転に適します。 プログラマブルコントローラ内蔵。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 シリコンカーバイト製発熱体により、優れた耐久性を持ちます。 ガス交換実験に適します。 セラミック製断熱材により、軽量且つ温度上昇速度が速い。 便利なデザインにより、試料のセットや取出しが容易。 加熱プログラムを5種類記憶可能な温度調節器(1プログラムに9セグメント)内蔵。 過熱防止装置付き/CE認証品。 半導体制御整流回路(SCR)とプログラム制御により、低ノイズ及び正確な温度制御(±1℃)を実現。 チューブサイズ:直径50/80/100/120mm。 チューブの材質:石英、セラミック、アルミナ、合金。
1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉!真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応し!高温焼成及び溶融、ガス分析に!
『HFQ-1100』は、高温化での熱処理ができ、常用1100℃(最大1150℃) まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉です。真空及びガス置換雰囲気下での 熱処理に対応。高温焼成及び溶融、ガス分析に適してます。Oリング部は 強制空冷の為、冷却水循環装置が不要です。 【特長】 ■常用1100℃(最大1150℃)まで昇温可能 ■真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応 ■Oリング部は強制空冷の為、冷却水循環装置が不要 ■所要電力:AC100V 2kW ※オプションによりAC200V ■設置スペースはW540×D420×H568mmと省スペース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
開き戸付き、ガス雰囲気使用の3ゾーンチューブ電気炉です。
常用温度1000°C以下の運転に適します。 プログラマブルコントローラ内蔵。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます(800°Cで29~30°C)。 Kanthal発熱体により、優れた耐久性を持ちます。 ガス交換実験に適します。 セラミック製断熱材により、軽量且つ温度上昇速度が速い。 便利なデザインにより、試料のセットや取出しが容易。 加熱プログラムを5種類記憶可能な温度調節器(1プログラムに9セグメント)内蔵。 過熱防止装置付き/CE認証品。 半導体制御整流回路(SSR)とプログラム制御により、低ノイズ及び正確な温度制御(±1℃)を実現。 チューブサイズ:直径50/80/100/120mm。 チューブの材質:石英、セラミック、アルミナ、合金。 300mm x 2ゾーン、300mm x 3ゾーン式もございます。
100Vコンセント 0.7Kwの省エネ仕様!重量は約4Kg!1200℃まで約2分で昇温可能な高性能ミニチュア管状雰囲気電気炉です
こんなユーザーに朗報!! 「精度高い実験がしたい」 「ガスのフローを一方向に綺麗に流し続けたい」 「昇温速度を更に早くしたい」 「1.5kwコンセントで2台使用したい」 「高価な希少性ガスを使用したい為、出来るだけ極小容積のチャンバーにて雰囲気加熱したい」 手のひらサイズ電気炉シリーズ第4弾! 両側マニホールドに最小外径15Φ(内径12Φ)高純度透明石英管を装着! 長3封筒(定形郵便規格)サイズで重量は約4Kg! A.C100Vコンセント 0.7Kwの省エネ仕様! MAX1,200℃まで約2分で昇温可能な高性能ミニチュア管状雰囲気電気炉です!
Max1000℃!石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能です
株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様】 ■排気系 RP + TMP/到達真空5 x 10^-5Pa ■ガスはO2に加えてArも使用可能 ■Max 1000℃ ■石英管内経φ76 ■試料を早く冷却するため炉体は可動式 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱できる電気炉
株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR. 分子ポンプ) ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが可能な炉体移動式のVGF炉です
『MAT-200VGFHQ』は、石英管式炉体移動型の炉構造であるVGF製造炉です。 ヒ素圧1atm中で育成するので、容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが 可能。常用温度は1200℃、最高温度は1300℃です。 また、育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。 さらにPBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。 【特長】 ■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離 ■PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
1200℃最高温度の真空管状炉 石英・セラミック炉心管対応
• 最高温度は1200℃で、カンタルワイヤー発熱体を使用しています • 真空ポンプと配管を接続することで、低真空・中真空下での熱処理が可能です • 真空置換機能により、不活性ガスや反応ガスなどの制御雰囲気での加熱が可能です • 大気での加熱も可能で、3種類の加熱方法を1機で実現できます • 温度制御器は本体に内蔵されており、制御箱を別置きにする必要がありません • 熱電対や炉心管の取り外しや交換が容易です • 科学研究所や教育機関などで、様々な材料試験や熱処理に使用されています
開き戸付き、ガス雰囲気使用の汎用チューブ炉です。
常用温度1000°C以下の運転に適します。 プログラマブルコントローラ内蔵。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます(800°Cで29~30°C)。 Kanthal発熱体により、優れた耐久性を持ちます。 ガス交換実験に適します。 セラミック製断熱材により、軽量且つ温度上昇速度が速い。 便利なデザインにより、試料のセットや取出しが容易。 加熱プログラムを5種類記憶可能な温度調節器(1プログラムに9セグメント)内蔵。 過熱防止装置付き/CE認証品。 半導体制御整流回路(SSR)とプログラム制御により、低ノイズ及び正確な温度制御(±1℃)を実現。 チューブサイズ:直径50/80/100/120mm。 チューブの材質:石英、セラミック、アルミナ、合金。