マスクのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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マスク(乳剤) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年10月01日~2025年10月28日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

マスクの製品一覧

1~8 件を表示 / 全 8 件

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スクリーンマスク『High Aspect Ratio』

インダクタ内部電極などの高アスペクト比印刷を実現。ペーストの抜け性改善

『High Aspect Ratio』は、インダクタ内部電極などの 高アスペクト比印刷を実現するスクリーンマスクです。 乳剤厚15μmで、線幅15μmのパターニングも可能です。 乳剤壁のスムース化により、ペーストの抜け性を改善しました。 【印刷例】 ■製版仕樣:SS500-13-C22 ・乳剤厚:15μm ・ペースト:塗布厚約15μm、線幅約15μm ■製版仕様:WO430-13-C21 ・乳剤厚:30μm ・ペースト:塗布厚約30μm、線幅約30μm ■製版仕様:SS230-25-55 ・乳剤厚:155μm ・塗布厚約:200μm、線幅約190μm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 印刷/出版
  • その他金属材料
  • その他

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スクリーンマスク【耐水・耐溶剤加工】

連続印刷時の膜厚変動防止に!CAD設計からマスク製造までの一貫生産体制で、印刷性向上を実現。

当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」をラインアップしています。 【耐水・耐溶剤加工について】 ペーストや洗浄剤に含まれる溶剤に対し、乳剤の膨潤を抑制します。 連続印刷時の膜厚変動防止に対して有効です。 ※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体

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スクリーンマスク

~全自動現像機ライン ~ 全自動現像機ラインにより、安定した品質のマスクを作製します。

●技術力 徹底した管理体制で高精細マスクを作製 ●高品質 超音波洗浄機を導入しピンホールの原因を除去 ●低コスト 最先端の技術を駆使し品質と安定性を確保 ●対応力 工程進捗管理の徹底でフレキシブルな生産体制

  • 印刷機械

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防じんマスク『TW01SC』

ひとつの面体で取替え式防じんマスクと直結式小型防毒マスクの国家検定に合格!

『TW01SC』は、石綿作業や重金属含有粉じんなどに役立つ 防じん・防毒マスクです。 排気弁をマスクの上部に設け、下方視野を確保したデザインで 広視野を実現しております。 作業環境に応じてフィルタ又は吸収缶のどちらも取付け可能です。 【特長】 ■フィットチェッカー 一体型 ■軽量・小型 ■広視野 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • そのほか消耗品
  • その他清掃用具

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『ミタニ製スクリーンマスク』のご紹介

ICチップから太陽電池まで拡がり続けるミタニ製スクリーンマスク!

当社では、MFTメッシュを中心に様々なメッシュや、乳剤ラインアップの 中でお客様のご用途にベストマッチした『スクリーンマスク』を ご提案しております。 小ロットから量産まで印刷のお手伝いもいたします。 社内で印刷を行っているためノウハウの蓄積があり、お客様にとって よりよい印刷方法がご提案できます。 【特長】 ■高精度・微細印刷に自信あり ■小ロットから量産まで様々な印刷に対応 ■短納期でもOK ■対応力の良さも抜群 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • フォトマスク
  • そのほか消耗品

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電子基板向けスクリーンマスク

ご用途に合わせた好適な乳剤タイプをご提案!オプションも充実しています。

当社の半導体関連マスク部門は、CAD設計からマスク製造までを一貫生産体制で行います。 スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使して高品質、大量生産、低コスト生産が可能です。 対応スピードと幅広い品ぞろえの両面の充実を実現いたします。 当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」や、「T3マスク」をラインアップしています。 【仕様】 ■枠サイズ  ・最大サイズ:□1,000mm ■メッシュ種  ・ポリエステル/ステンレス ■標準メッシュカウント   ・ポリエステル:120~305(本/インチ)  ・ステンレス:165~500(本/インチ) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体

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よくわかる!ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基礎

<半導体関連マスク‐基本資料公開>部署異動や転職で、はじめて各種マスクを扱われる方必見!マスクの構造や種類、製造方法を詳しく解説

竹田東京プロセスサービスでは、プリント基板や電子部品の電子回路形成用として使用される フォトマスク(ガラスマスク)、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 万全の生産体制で高精度かつ高品質なマスクでお客様の多様なニーズにお応えします! 本資料は、当社ならではの視点で 『ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基本』を詳しくおまとめしています。 部署の異動や配属、転職等で新たにマスクをご使用になる方向けの資料です。ぜひ選定の際にご活用ください! 【資料掲載内容】 ◎ガラスマスク編  ・基本構造、種類、作り方  ・ペリクル付きCrガラスマスクについて  ・Emガラスマスク、Crガラスマスクについて ◎スクリーンマスク編 … 基本構造、乳剤の種類、作り方  ◎メタルマスク編 … 基本構造、種類、作り方 *本資料は[PDFダウンロード]よりご覧いただけます。 *その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。

  • フォトマスク

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配線パターン印刷用|スクリーンマスク「T5マスク」

解像性に優れた”50μm”の微細パターンを再現。ご用途に合わせた好適な乳剤タイプをご提案!オプションも充実しています。

当社は、CAD設計からマスク製造までを行う一貫生産体制を構築しております。 スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使した高品質、大量生産、低コストでの生産が可能です。 対応スピードと幅広い品ぞろえの両面での充実を実現いたします! 【T5マスクについて】 ■用途…配線パターン印刷 ■特徴 ・優れた解像性 ・50umの微細パターンの再現が可能 ・耐摩耗性、耐溶剤性 ・繰り返しの使用にも対応 ※乳剤タイプの比較資料はPDFをダウンロード、もしくはお気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体

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