炉のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
イプロスは、 製造業 BtoB における情報を集めた国内最大級の技術データベースサイトです。

炉(ハロゲンヒーター) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

炉の製品一覧

1~4 件を表示 / 全 4 件

表示件数

バッチ式高温焼成炉(大気雰囲気)エレベーター昇降タイプ

炉床板が回転することにより、均熱性に優れています

当社では、セラミック基板の焼成処理などの~1600℃の高温で ご利用いただける『バッチ式高温焼成炉(大気雰囲気)』 (エレベーター昇降タイプ)を取り扱っております。 エレベーター方式により、省スペースが実現。 また、ワークを台車にセットした状態で、容易に炉に投入することができます。 【標準仕様】 ■温度条件:常用温度/1550℃±5℃ 最高温度/1600℃ ■雰囲気:クリーンエアー ■加熱方式:ハロゲンヒーター/IRヒーター 選択可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

小型塩素炉|選択塩素化・腐食性ガス雰囲気試験に対応

選択塩素化・治具洗浄・腐食性ガス評価に対応する小型ハロゲン炉

「小型塩素炉」は、Cl2、HClなどのハロゲンガス雰囲気に対応した小型試験炉です。 金属不純物のドライ除去、選択塩素化、腐食性ガス雰囲気での材料評価、反応制御、治具洗浄などに適用できます。 棚板ヒーターによる均一加熱により、サンプル内部までCl2ガスを拡散させやすく、粉末・多孔質体・セラミックス・カーボン材などの小スケール条件検討に適しています。 また、生成した塩化物の沸点を利用することで、より低温での処理条件を検討できます。Cl2、HCl、減圧運転を考慮した安全設計により、腐食性ガスを扱う試験環境を構築できます。 【特長】 ■ Cl2、HClなどのハロゲンガスに対応 ■ 金属不純物のドライ除去・選択塩素化に適用 ■ 棚板ヒーターによりサンプルを均一加熱 ■ 粉末・多孔質体の内部までガスを拡散させやすい構造 ■ 排気・除害・ガス検知・インターロックとの連携が可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

真空熱処理炉

既成品からオーダーまで対応!プレス付真空熱処理炉や超高温熱処理炉をご紹介

当社で取り扱う真空熱処理炉をご紹介いたします。 加熱温度が常用600℃の「プレス付真空熱処理炉」をはじめ、 ハロゲンランプ等の電極の充填、脱ガス等、真空熱処理を行う 「超高真空脱ガス炉」などをラインアップ。 製品知識の高いスタッフが万全の修理体制をとっており、既成品から オーダーまで対応をします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■プレス付真空熱処理炉 ■超高温熱処理炉 ■超高真空脱ガス炉 ■多目的高温炉 ■金属線材連続熱処理炉 ■金属試料2段温度熱処理炉 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 真空機器
  • 加熱装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録