超高真空脱ガス炉
超高真空脱ガス炉
【特長】 ハロゲンランプ等の電極の充填、脱ガス等、真空熱処理を行う炉です。 高真空のため排気系としてはターボ分子ポンプを使用しております。 【仕様】 到達圧力：5X10-6Pa 常用圧力：X10-4Pa 最高加熱温度：2400℃ 常用加熱温度：2000℃ 高周波電源：40KW 均熱帯：30パイx30H（2000℃±2%）
- 企業：アトーテック 株式会社
- 価格：応相談
炉(ハロゲンランプ) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり
炉の製品一覧
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近赤外線塗装乾燥炉「ハロゲンランプオーダーシステム」
近赤外線ハロゲンランプを使用し高効率な乾燥機を設計！内側から乾燥や効果を促進することで未乾燥・未硬化を低減！省エネ・長寿命です！
近赤外線ハロゲンランプは、 対象物を内側から乾燥や硬化を促進させるので未乾燥・未硬化などの不具合発生を低減します。 また電源ＯＮで瞬時に要求温度に達しますので無駄なく短時間で処理を終えることが可能となります。 よって省エネルギーによるコスト削減や環境エコにも繋がります。 目的、用途、被乾燥物に合わせた乾燥・加熱性能を提供し、様々な材質、目的に合わせ設計いたします。 ■特徴 ・レスポンスの速さ ・ランプ式放射加熱で雰囲気温度に影響されない質の高い赤外線を放射 ・均一な照射で焼きムラ・乾燥ムラを低減 ・コンタミフリーなクリーン加熱で、大気中・真空中など加熱雰囲気不問 ・約３０００～５０００時間（使用環境や出力により変わります）の長寿命設計 ※詳細はPDFダウンロードいただくかお問合せ下さい。
- 企業：株式会社トーコー
- 価格：応相談
真空熱処理炉
既成品からオーダーまで対応！プレス付真空熱処理炉や超高温熱処理炉をご紹介
当社で取り扱う真空熱処理炉をご紹介いたします。 加熱温度が常用600℃の「プレス付真空熱処理炉」をはじめ、 ハロゲンランプ等の電極の充填、脱ガス等、真空熱処理を行う 「超高真空脱ガス炉」などをラインアップ。 製品知識の高いスタッフが万全の修理体制をとっており、既成品から オーダーまで対応をします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■プレス付真空熱処理炉 ■超高温熱処理炉 ■超高真空脱ガス炉 ■多目的高温炉 ■金属線材連続熱処理炉 ■金属試料2段温度熱処理炉 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：アトーテック 株式会社
- 価格：応相談
「米倉製作所のIRイメージ炉、宇宙環境を想定した材料研究に採用」
― レゴリス（月の砂）から未来の建材を創り出す先進技術をサポート―
タカラスタンダード株式会社様では、弊社の IRイメージ炉 を研究開発分野に導入いただき、 自社ホーロー技術のさらなる可能性を探るための取り組みを進めておられます。 その研究テーマの一つである宇宙環境を想定した材料研究が、先日新聞紙上でも紹介され、 同社の先進的な技術開発が広く注目を集めています。 システムキッチンで知られるタカラスタンダード株式会社様では、長年培ってきたホーロー技術の新たな応用可能性を探る研究の一環として、宇宙環境を想定した材料評価に取り組まれています。 その実験設備として、米倉製作所のIRイメージ炉が採用され、レゴリス（※月面の表層を覆う砂状物質）を模擬した材料を 用いた基礎的な評価・検証をされています。
- 企業：株式会社米倉製作所
- 価格：応相談
アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）
- 企業：テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
- 価格：応相談
