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気化器＋マルチ雰囲気炉で、狭隙・内面・凹部への熱CVDコーティングを検討
従来のコーティングでは、原料溶液を部材表面に塗布し、乾燥後に電気炉で焼成する方式が一般的です。 しかし、狭い隙間、内面、凹部、段差部を持つ部材では、塗布ムラや未塗布部が発生しやすく、塗布量・乾燥収縮・焼成後膜厚のばらつきが課題になる場合があります。 当社のマルチ雰囲気炉は、Wetter方式だけでなく、気化器を接続することで、液体原料や有機金属前駆体を気化導入する熱CVD炉としての構成も検討可能です。 気化器で原料を安定供給し、キャリアガスで炉内へ導入することで、部材表面に気相反応による膜形成・コーティングを行うプロセス開発に活用できます。 【特長】 ■ 液体原料・有機金属前駆体の気化導入に対応 ■ 熱CVD、表面改質、コーティング条件の検討が可能 ■ 狭隙、内面、凹部、段差部を持つ部材への成膜を検討可能 ■ 塗布・乾燥工程の省略による工程短縮を期待 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
高温500℃においてライン速度70m/minが可能！
『高温熱処理炉・高温延伸機』は、従来の200℃対応の乾燥炉よりも高い 温度が必要な 樹脂・フィルムなどの材料を延伸、成膜工程後の熱処理、 乾燥を行う事が可能な設備です。 仕様に応じて水冷レール選択可能。 保持方式も、クリップ式とピン式から選択できます。 【テスト機仕様(一部抜粋)】 ■熱処理長さ：1.5m×3室 ■入口フィルム幅：300～1000mm ■出口フィルム幅：300～1000mm ■乾燥炉構成：予熱・延伸・熱固定（緩和）等で温度設定可能 ■延伸倍率：MAX3.3倍 ■熱風温度：MAX380℃ ■速度：0.1～10m/min ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ガス切替＋加湿/気化器ユニットで、焼成・反応評価・熱CVDを1台で検討
「マルチ雰囲気炉」は、真空・不活性雰囲気に加え、H2、NH3、O2など複数の雰囲気ガスを切り替えながら加熱できる汎用型の雰囲気炉です。 酸化、還元、窒化、加湿雰囲気での焼成など、複雑な反応条件を1台で再現できるため、材料開発・表面処理・粉末焼成・反応評価に適しています。 また、Wetterによる加湿ラインだけでなく、気化器を組み合わせることで、液体原料や有機金属溶液を気化導入する熱CVD炉としての構成も検討可能です。 薄膜形成、表面改質、コーティング、前駆体反応評価など、通常の雰囲気焼成より一歩進んだプロセス開発にも活用できます。 【特長】 ■ 真空、不活性、酸化、還元、窒化雰囲気に対応 ■ H2、NH3、O2、N2、Arなど各種ガスを切替可能 ■ Wetter接続により加湿雰囲気焼成に対応 ■ 気化器接続により熱CVDプロセスにも拡張可能 ■ 最高温度1700℃、昇温速度10℃/minに対応 ■ 排気・除害・安全機器との連携も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
