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【精密位置決め装置】5nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ
【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1020SPX(MD) 高速度タイプはFS-1020UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ
【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1040SPX(MD) 高速度タイプはFS-1040UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-514との組み合わせ
【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1050SPX(MD) 高速度タイプはFS-1050UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ
【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
【ロングストローク】エンコーダを内蔵した高分解能・高い位置再現性・高い位置保持性を持った位置決めステージ
光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 『 50nm 』又は『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 ストロークが長いため試料の移動と精密位置決めをこれ１台で行うことができます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411又はFC-111との組み合わせ
【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』または『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-414またはFC-114との組み合わせ
[真空対応]1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っており、大気用と同等の特徴を備えています。
真空中で使用可能！リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能のZ軸用位置決めステージ！
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ
