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ホットプレート×株式会社MSAファクトリー - 企業1社の製品一覧

製品一覧

16~30 件を表示 / 全 47 件

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薄型大面積ホットプレート「PA2040型」

電子機器、材料評価、医療関連など、さまざまな分野での加熱工程に最適!

「PA2040型」は最高温度200℃の薄型・大面積のホットプレート です。高さ(厚み) 40mmの薄型構造で、大面積でありながら温度分布±2%と高い精度を誇ります。 プレートの全周を覆う断熱性の高い樹脂カバーで、プレート周辺が高温になるのを防ぎます。 恒温槽以上に正確なため、恒温槽の代わりにご使用頂いたり1000時間以上の長時間運転で、電子部品の評価を行う用途にご使用頂いたりするなど、あらゆるアプリケーションに適合致します。 電子機器、材料評価、医療関連など、さまざまな分野での加熱工程や、電子部品の信頼性試験など長時間運転にも最適です。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • 加熱装置

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防水高温ホットプレート「PA4040-WP型」

耐環境性の必要な加熱工程に最適!サイズ、カバー構造、温度までカスタマイズ可能です

「PA4040-WP型」は最高温度400℃対応で均熱性の優れた防水高温ホットプレートです。サイズ、ヒータ容量とも大型で、大きな熱容量のワークにも安定した稼働をいたします。 上面カバータイプなど、使用環境に合わせたホットプレートを提供いたします。また、装置メーカ様向けOEM対応いたします。 ※具体的な環境などご提示いただけましたらカスタム対応いたしますので、ご相談ください。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • 加熱装置

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裏面取付ホットプレート「PA-4010BP型」

上下面に加熱が必要なアプリケーションに!サイズから温度までカスタマイズ可能

「PA-4010BP型」は最高温度400℃対応の反転加熱方式を採用した高温ホットプレートです。通常の使用方法+上面からも加熱が必要なアプリケーションに対応しています。 プレートは均熱性に優れたアルミ合金タイプで、反転して使用できるように特殊遮熱ケース構造としております。 【仕様】 ■温度制御範囲:室温~400℃ ■ホットプレートサイズ:100×100mm ■温度精度:±1.5%(アルミ合金仕様) ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • 加熱装置

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恒温槽内用ホットプレート「PA2509-HI型」

恒温槽内での使用を想定した高耐熱ホットプレートです。

恒温槽内用ホットプレート「PA2509-HI型」の最大の特徴は、最大180℃までの優れた耐熱性です。 すべての部品が耐熱性を持っているため、そのまま恒温槽内に入れてお使い頂けます。 設置面からプレート上面までわずか40mmの薄型ボディは、設置する場所を選ばず様々なアプリケーションに適合致します。 温度コントローラーは、PCCシリーズとワンタッチコネクタで接続可能です。 【特徴】 ○恒温槽内での使用を想定した高耐熱ホットプレート ○180℃までの恒温槽内で使用可能 ○最高温度 200℃ ○プレート(加熱面)サイズ 108×75mm(プレートサイズはカスタマイズが可能) ○180℃まで耐えることのできる特殊ケーブルを使用 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • その他半導体製造装置
  • 加熱装置

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高温ホットプレート「PA4007型」

最高温度400℃!小型、高温のホットプレートです。

高温ホットプレート「PA4007型」は、全体サイズが158×106mmと小型のため、様々な場面でご使用頂けます。 また、最高で400℃まで加熱出来ますが、温度分布も±0.8%と大変優れています。 MSAファクトリーのデジタル温度コントローラ PCCシリーズとワンタッチで接続頂けます。 【特徴】 ○最高温度:400℃ ○プレートサイズ:70×80mm(カスタマイズ対応可) ○MSAファクトリーのデジタル温度コントローラPCCシリーズとの  組み合わせで精密な温度制御が可能 ○小型サイズで様々なアプリケーションに適合 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • その他半導体製造装置
  • 加熱装置

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高温ホットプレート リフター付 「PA8015-L」

リフターピン駆動によりウエハなどの上下搬送が可能です。

高温ホットプレート リフター付 「PA8015-L」は、リフターピン駆動によりウエハなどの上下搬送が可能です。 プレート、リフターピンは、超耐熱合金にて製作しております。 安全カバー(オプション)は、上開口扉付、扉無しなどのバリエーションがございます。 【特徴】 ○最高温度 800℃ 対応 ○ホットプレートサイズ □175mm ○MSA デジタル温度コントローラーにて精密温度制御、流量制御が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 加熱装置

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真空環境用ホットプレート 「PH-220S-42型」

最高温度 400℃ 対応!均熱性に優れた真空環境高温ホットプレートです。

真空環境用ホットプレート 「PH-220S-42型」は、ローブボックス、真空チャンバーでの加熱工程に最適です! 低真空(10×10-1Paまで)で、安価なホットプレートとして使用できます。 サイズ、カバー構造、温度までカスタマイズ可能。 貴社の加熱工程への組み込み、装置メーカ様OEM対応いたします。 【特徴】 ○最高温度 400℃ 対応 ○均熱性に優れた真空環境高温ホットプレート ○プレートはアルミプレート ○極薄型構造により、設置レイアウト性に優れている ○OEM対応 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • その他加工機械

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高絶縁タイプ ホットプレート 「PH-121-HI型」

電子部品、基板、ウエハの高温・高電界試験用ステージとして低予算にて導入可能

高絶縁タイプ ホットプレート 「PH-121-HI型」は、電子部品、基板、ウエハの高温・高電界試験用ステージとして、低予算にて導入可能です。 ホットプレートの設置面への固定方法などもカスタム対応いたします。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲 室温~200℃ ○ホットプレートサイズ 標準70×70~125×125mm ○温度精度 ±3%(電極上での分布) 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 加熱装置

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薄型大面積ホットプレート 「PA2040S型」 高均熱性タイプ

大面積ホットプレート専用ヒーターにより、高い均熱性を実現致しました。

薄型大面積ホットプレート 「PA2040S型」 高均熱性タイプは、プレート中心部と周辺部の温度差が小さいため、大きいサイズのワークの加熱工程は勿論のこと、小さいワークを複数並べて、一度に加熱するような工程にもお使い頂けます。 【特徴】 ○均熱性に優れた大面積ホットプレート ○様々なアプリケーションに適合 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 加熱装置

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フィルムチャック用ホットプレート 「PA2012-FC型」

貴社の加熱工程への組み込み、装置メーカ様OEM対応品

フィルムチャック用ホットプレート 「PA2012-FC型」は、フィルム形状のサンプル加熱工程に最適です。 サイズ、カバー構造、温度までカスタマイズ可能。 ホットプレートの設置面への固定方法などもカスタム対応いたします。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲 室温~200℃ ○ホットチャックサイズ 120×120mm ○温度精度 ±1.5% 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 加熱装置

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真空環境対応 遠赤外ホットプレート 「PA2030-IR型」

セラミックコーティング表面により、遠赤外線による非接触加熱用ホットプレート

真空環境対応 遠赤外ホットプレート 「PA2030-IR型」は、セラミックコーティング表面により、遠赤外線による非接触加熱用ホットプレートです。 装置取付インターフェースは、御社装置に合わせ製作いたします。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲 50~250℃ ○サイズ 300×300mm ○表面処理 アルミナコーティング処理 ○使用環境 真空 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 加熱装置

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温度プログラム式ホットプレート PH250

加熱工程、温度評価など、様々なアプリケーションに対応可能!MAX400℃です。

はんだ付け工程、材料評価、樹脂硬化工程、その他温度プロファイルが必要な工程に、幅広くご使用いただけます。

  • その他ヒータ
  • 加熱装置
  • ボンディング装置

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真空チャンバー ホットプレート 「PH221」

簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能!

真空チャンバー ホットプレート 「PH221」は、チャンバー構造ホットプレート(最高温度200℃)です。ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプで、低真空環境での加熱工程を簡易に実現いたします。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布 ±2.0%。プログラム式温度コントローラー(別売)により、温度プログラム設定が可能です。真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • 加熱装置

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真空チャンバーホットプレート PH222

低真空環境での加熱工程を簡易に・安価に実現!

PH222は、真空チャンバータイプのホットプレートです。最高温度400℃タイプ(加熱条件により、水冷が必要です)。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布は±2.0%、プログラム式温度コントローラー(別売)により、温度プログラム設定が可能です。 真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • 加熱装置

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大面積/メートルサイズホットプレート PH-20125型

液晶プロセスなど大面積を必要とする加熱工程向け!

PH-20125型は、液晶プロセスなど大面積を必要とする加熱工程向けの超大面積(メートルサイズ)のホットプレートです。120mm高さの超薄型構造で、サイズは800×800mm~1500×1500mm、任意サイズで製作可能です。また、温度コントローラー(別売)を使用し、幅広い温度設定(室温-120℃)および高精度温調が可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • 加熱装置

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