更新日： 集計期間:2025年09月10日～2025年10月07日
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＜YAGEO NEXENSOS＞ 発電所のセンサ交換頻度およびダウンタイムによるコストロスを削減します！
産業プロセス、発電所、化学プラント、製油所、パイプラインでは、 正確で信頼性の高い温度モニタリングとコントロールが重要です。 石油およびガス、製造、化学、計測、ライフサイエンス、食品および飲料、HVACなど様々なプロセス温度管理に使用。 プロセス温度を継続的かつ正確にモニタリングするために、 MおよびLタイプの『白金温度センサ』が多く使用されています。 【アプリケーション】 ■石油およびガス、製造、化学、計測、ライフサイエンス、 食品および飲料、HVACなど様々なプロセス温度管理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
＜YAGEO NEXENSOS＞ 長期メンテナンスにおける信頼性、長期安定性、低コストで高い費用対効果！！
プラントのプロセスモニタリングとコントロールでは、温度センサと 圧力センサが重要な役割を担います。 厳しい測定条件には『白金温度センサ』が好適。優れた長期安定性を備え、様々な温度範囲において高精度で再現性の高い測定をします。 また、互換性があるためメンテナンスが容易にできます。 【アプリケーション】 ■風力発電所 ■太陽熱利用システム ■バイオガスプラント ■ガス発電所 ■熱電供給プラント ■地熱エネルギー ■石炭火力発電所 ■原子力発電所 ■水力発電所 など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
デジタル表示付の低価格！オートチューニング機能搭載の温度コントローラー
『M18』は、シンプル機能で廉価版のLAはんだこて用 温度コントローラーです。 温度制御方法はPID制御で、本体消費電力10VA以下。 ケースの材質はスチールとなっており、オートチューニング機能を 搭載しています。 またこて台は、コントローラーとこてユニットのセット購入時に 付属しております。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■デジタル表示付の低価格 ■最小クラスのモデル ■オートチューニング機能搭載 ■シンプル機能 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
標準タンクやカスタムタンクに取り付けて、容器内部の材料の残量を確認
液面計/レベル計 （加圧タンク用）は標準タンクやカスタムタンクに取り付けて、容器内部の材料の残量を確認できます。透明度の高いテフロンチューブをタンク側面に直接取りつけ、内部の材料の残量を目視で確認できます。溶接部のパフ研磨はできません。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
防爆環境の場合に最適。エアモーター式の攪拌ユニット
ハウジング、シャフトはステンレスのため錆びにくい構造です。エアモーター式の攪拌ユニットで出力とトルクの違いによって3種類の攪拌ユニットを用意しております。 防爆環境の場合に最適です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
加圧タンク、無加圧タンクに取り付け可能です
タンク用攪拌ユニットEDMXシリーズは加圧タンク、無加圧タンクに取り付け可能です。（取り付け穴加工が別途必要です）。電気モーター式の攪拌ユニットで、モーター容量や形状とトルクの違いによって4種類の攪拌ユニットを用意しております。別途、防爆タイプのエアーモータ一式安全増し防爆タイプもあります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
ノズルホルダーで位置決めがしっかり出来ます
ピンチ式バルブ E－V31シリーズは液送チューブをつぶすことにより、材料のON・OFFを行いますので、パルプ本体には材料が触れないため、洗浄の必要がありません。液送チューブはテフロン・ウレタンの2種類から選択できます。ノズルホルダーが付いていますので、自動機などに搭載する際にも位置決めがしっかり出来ます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
バルブ内部のスプリング圧によって液材料の液だれや漏れを防止します
液だれ防止バルブ 低粘度用ESVO15－80シリーズは液だれや漏れを防止するため、シリンジ（バレル）の先端やポンプやチューブなどに接続しノズル（ニードル）をセットして使用するバルブです。バルブ内部のスプリング圧によって液材料の液だれや漏れを防止します。接続部がルアーロック式とRl／8，M6ネジ、φ2、φ4用タケノコの5種類有り、広い範囲に応用できます。接液材質が標準SUS316で、嫌気性接着剤やUV系材料に適した黒PTFE（テフロン）製が有ります。スプリング（バネ）圧が3種類有るので、用途に合った選定ができます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
シール材も豊富にラインアップ！2種の本体形状の中から、配管条件にあった形状を選択可能
『FFNV1シリーズ』は、ニードル部を無回転構造にする事により、 スムーズに精密な流量制御が可能なニードル弁です。 豊富なニードルラインアップの中から、ご使用条件にあったニードル選定が できるほか、2種の本体形状の中から、配管条件にあった形状を選択可能。 また、シール材も豊富にラインアップしています。 【特長】 ■気体・液体対応 ■ニードル部を無回転構造にする事により、スムーズに精密な流量制御が可能（約13回転） ■豊富なニードルラインアップの中から、ご使用条件にあったニードルの選定が可能 ■2種の本体形状の中から、配管条件にあった形状を選択可能 ■豊富なシール材ラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
モーター容量や形状とトルクの違いによって4種類の攪拌ユニットを用意
タンク用攪拌ユニット EDMXシリーズは、電気モーター式の攪拌ユニットで、モーター容量や形状とトルクの違いによって4種類の撹拌ユニットを用意しております。別途、防爆タイプのエアーモーター式安全増し防爆タイプもあります。理化学用液体の実験、食品、バイオ研究用、生産用接着剤、インク、洗浄液、薬品の混合、攪拌、ミキシング、混レンに最適なアジテーターです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
バルブ本体には材料が触れないため、洗浄の必要がありません。
ピンチ式バルブ E-V31シリーズは、液送チューブをつぶすことにより、材料のON・OFFを行ないますので、バルブ本体には材料が触れないため、洗浄の必要がありません。液送チューブはテフロン・ウレタンの2種類から選択できます。ノズルホルダーが付いていますので、自動機などに搭載する際にも位置決めがしっかり出来ます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
溶剤、強酸・強アルカリ材料UV（紫外線）硬化樹脂の定量吐出
空圧式テフロンダイヤフラム バルブEV22-120/130シリーズは、接液部のシールにテフロンダイヤフラムを使用しているのでドライブ（駆動）部への液の廻り込みが有りません。小型軽量（□22ミリ）ですので、自動機への組込や並列、多連での使用が容易です。流量調整ネジにより弁の開閉ストロークを調整できますので、微小量吐出が可能です。EV22-120は接液部がすべてテフロン（フッ素樹脂製）ですので耐薬品性に優れています。EV22-130は接液ボディが黒テフロン製（EV22-130）ですので、UV（紫外線）硬化性樹脂材料や嫌気性樹脂材料に適しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
標準タンクやカスタムタンクに取付けて容器内部の材料の残量を確認できます
液面計/レベル計 加圧タンク用は、標準タンクやカスタムタンクに取り付けて容器内部の材料の残量を確認できます。透明度の高いテフロンチューブをタンク側面に直接取りつけ、内部の材料の残量を目視で確認できます。溶接部のバフ研磨はできません。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
卓上での操作、実験用に最適な小型ケース仕様のペルチェコントローラ
温度制御の応答速度が速く、高精度で安定した駆動が可能なペルチェ温度コントローラです。 ・温度センサーは Pt（白金測温抵抗体）、NTCサーミスタに対応 ・最大電圧（Vmax）が低いペルチェ素子の駆動に対応（オプション） ・幅110mm × 奥行124.5mm × 高さ48.5mm 下記のラインアップの型番ごとに小型ケース仕様での製作が可能です。 ご使用の条件をお知らせいただければ、お客様のご要望に沿った製品をご提案いたします。 また、設定温度範囲の変更などカスタム品の製作もできますので、ご遠慮なくお問い合わせください。
本温度コントローラは、半導体レーザの波長、パワーを安定化させる事を目的にペルチェ、サーミスターを用いた温度コントローラです。
弊社温度コントローラは、サーミスタから得た抵抗変化をPID制御によりペルチェに流れる電流を制御し 任意の定められた温度を外部要因に係らず保つ事を可能としたペルチェ制御装置を温度コントローラと言います。 半導体レーザ駆動システムから温度コントロ－ラ部を除去すると、光パワー・波長に揺らぎが生じます。 気泡に温度を加えるとその体積は膨張します。 また、特定物質に温度を引いたり加えたりすることで被測定物質の抵抗値が変化します。ホトダイオードから温度を引くと暗電流が少なくなります。 このように、世の中に存在する温度依存性の高い物性の温度制御に温度コントローラは威力を発揮 します。 本器の特徴は、温度センサーにサーミスタ（リニア補正回路付）あるいは、白金センサーを用い設定温度 に対しPID(比例・積分・微分)制御電流をペルチェあるいはヒータに流すことで1/100℃～1/10℃の 精度補償された制御を何方でも容易に得ることを可能にした温度コントロ－ラです。 被温度制御物質の負荷容量により恒温プレートの質量・放熱用ヒートシンクの容量及び使用するペルチェ容量等に十分な配慮が必要となります。
