ニッケルクロム（NiCr）ターゲット
薄膜形成やマイクロエレクトロニクス製造、建築ガラスのLow-E膜・液晶パネル・記録メディアなどに利用可能なニッケルクロム！
■純度：99.5％~99.95％ ■密度（8.4 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- Company：株式会社スパッタコア 本社
- Price：応相談
クロムターゲット(薄膜) - List of Manufacturers, Suppliers, Companies and Products | IPROS GMS
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