ケミカルフィルタシステム「リソガード12」
ArF液浸露光など、ハイエンド半導体露光装置向けケミカルフィルタシステム
「リソガード12」は、ArF液浸露光を始めとするハイエンド半導体露光装置向けに開発された、酸性・塩基性・凝縮性有機ガス除去用HEPAフィルタ付高効率ケミカルフィルタシステムです。 キャビネット内にLPSフィルタまたはBSMmaxフィルタ１２枚とHEPAフィルタ６枚を搭載しています。 低濃度環境下においても高い汚染物質除去性能を発揮するため、調清浄環境が要求されるプロセスの実現や光学系部品の汚染による性能低下の防止にも最適です。 【特長】 ○長寿命（LPSまたはBSMmaxフィルタ搭載） ○省スペース ○低コスト（Refillプログラムによるフィルターの再生利用） その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
- 企業：日本ドナルドソン株式会社
- 価格：応相談
