プラズマ処理剤 - メーカー・企業と製品の一覧

ウエハ型セラミックタイプ(Si基板)変色の温度依存性

400℃加熱しながらプラズマ処理！ArプラズマとO2プラズマの変色色差の傾向

ウエハ型セラミックタイプ(Si基板)変色の温度依存性の技術データに ついてご紹介いたします。 「PLAZMARK」のウエハ型セラミックタイプを400℃加熱しながらプラズマ 処理した場合、Arプラズマでは変色色差は小さくなる傾向が見られ、 O2プラズマでは変色色差が大きくなる傾向が見られました。 変色の温度依存性はあるが、400℃でもインジケータとして使用可能である ことを確認することができました。 【Ar/O2プラズマ処理　概要】 ■方式：CCP(RF) ■初期真空度：5.0×10^-4Pa ■RFパワー：50W ■ガス流量：40sccm ■処理ガス圧：10Pa ■処理時間：10分 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 ※画像1枚目がArプラズマ処理、2枚目がO2プラズマ処理。