【表面処理】耐プラズマエロージョン 半導体製造装置関連
半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、イットリア溶射をコートすることで耐プラズマエロージョンを付与
■溶射材料:イットリア ■溶射方法:プラズマ溶射 ■施工方法:耐プラズマエロージョン ■施工実績:半導体製造装置関連
- 企業:富士岐工産株式会社
- 価格:応相談
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半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、イットリア溶射をコートすることで耐プラズマエロージョンを付与
■溶射材料:イットリア ■溶射方法:プラズマ溶射 ■施工方法:耐プラズマエロージョン ■施工実績:半導体製造装置関連
溶けた粒子が超高速で母材に激突してコーティング!産業機械、科学機械装置などに好適
『プラズマ溶射』は、セラミック、サーメット、炭化物、 金属、合金等なんでも溶射が可能です。 1000℃以上の熱プラズマで溶射材の粒子を溶かし、溶けた粒子が 超高速で母材に激突してコーティングします。 産業機械、科学機械装置、自動車、製鉄・製鋼機械などに ご活用いただけます。 【特長】 ■セラミック、サーメット、炭化物、金属、 合金等なんでも溶射が可能 ■1000℃以上の熱プラズマで溶射材の粒子を溶かす ■溶けた粒子が超高速で母材に激突してコーティング ■産業機械、科学機械装置、自動車などに好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
φ60の基材でも専用装置で、金属系から高融点のセラミックス系まで広範囲な溶射材料が使用できます。
■溶射材料:金属系・セラミックス系 ■溶射方法:プラズマ溶射 ■施工効果:下記は一部例 アルミナ・・・・耐摩耗性、絶縁性 ジルコニア・・・遮熱、断熱性、絶縁性 ■施工可能最低内径:φ60 ■長さ方向施工可能範囲:約400mm
幅広い産業分野で活躍する大阪富士工業の溶射技術
本装置の機構は、トーチに供給された高圧の水流が内部で円筒過水流を作る仕組みになっています。 このような状態で、カーボン陰極と鉄製回転陽極との間に電圧をかけ、強制的に直流アークを発生させると、過水流の内側表面の水が蒸発し、分解後プラズマ状態となり、連続的にプラズマアークを発生します。 そのプラズマアークは旋回する円筒水流によって絞り込まれ、エネルギー密度を高めながら、プラズマの急激な熱膨張により、高温・高速の安定したプラズマジェット炎をノズルから噴射します。 プラズマジェット炎の最大温度は、およそ30、000℃にも達しますので高融点のセラミックスでも容易に溶射可能です。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
幅広い産業分野で活躍する大阪富士工業の溶射技術
アルゴン、ヘリウムなどの作動ガス中で、タングステン陰極と銅ノズル陽極間に電圧をかけ、直流アークを発生させると作動ガスが解離・電離し、連続的にプラズマアークが発生します。 これを冷却させたノズルにより絞り込み、15、000℃以上の高温・高速ジェットを噴出させます。 そのプラズマジェット中に粉末を送り、溶融させながら加速して被覆する方法で、セラミックスなどの高融点材料の溶射が可能です。 さらに、プラズマジェット噴流が溶融粒子を高速度で素材に吹き付けることにより、他の溶射方法に比べ高品質な溶射皮膜の形成が可能であり、溶射材料のバリエーションも豊富です。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
基材と溶射皮膜の密着性が高いなどの特性をもっています。
溶射法 「プラズマ溶射」は、不活性ガスを通電し、プラズマジェットを形成させ、これに粉末状の溶射材料を投入し皮膜を形成するプロセスです。 高融点の金属、サーメット、セラミックスをはじめ、ほとんどの材料を溶射することができます。 また、基材と溶射皮膜の密着性が高いなどの特性をもっています。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。