ラバーヒータのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ラバーヒータ(ラミネーター) - メーカー・企業と製品の一覧

ラバーヒータの製品一覧

1~6 件を表示 / 全 6 件

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高温用シリコーンラバーヒーター

被加熱物の形状に合わせ、様々な形状が製作可能。1枚からでも製作致します!

・高温タイプは、連続使用温度250℃での使用を考慮して製作されています。 ・標準タイプに比べ高いワット密度の設定が出来るので、急速加熱が可能。  0.8~1.5W/㎠  ※取付状態、温度制御方法により大きく変動しますので、選定に際しま   してはご相談下さい。 ・ヒーター厚はわずか1.5mmなので、熱応答性に大変優れています。 ・低電圧から100V・200V・240V など、各種電圧設計に対応可能。

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シリコンラバーヒーター

1枚からのイージーオーダー!金属ヒーターに代わる柔軟性のある面状発熱体

『シリコンラバーヒーター』は、上下2枚のガラスクロスシリコンゴムをカレンダ加工した、薄い2枚のシートで構成されている面状発熱体です。 柔軟性に優れ、曲面、円筒に巻き付けるなど被加熱物に完全にフィットさせることができます。 また、連続200℃で半永久的に使用可能です。 【特長】 ■柔軟性のある面状発熱体 ■ヒーターの形状は自由に製作可能 ■連続200℃で半永久的に使用可能 ■独自の製造方法により1枚からでも短納期で製作可能 ■被加熱物に簡単に接着 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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標準型シリコーンラバーヒーター

被加熱物の形状に合わせ、様々な形状が製作可能。 1枚からでも製作致します!

・ヒーター厚はわずか1.5mmなので、熱応答性に優れています。  ※シートを積層する事により厚みの調整も可能です。 ・シリコーンラバーの柔軟性をいかし、被加熱物のどんな形状にも完全に  フィット可能です。 ・低温度から200℃まで使用可能。 ・低電圧から100V・200V・240Vなど、各種電圧設計に対応可能。 ・シリコーンラバーヒーターの材料はUL規格ファイルNo.E54153を使用。 ・標準タイプはUL-94HB対応品ですが、より難燃グレードの高い  UL-94-V0対応品もご用意しております。

  • その他半導体製造装置
  • その他加工機械

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柔軟性、耐薬品性、保温に優れた熱体【シリコンラバーヒーター】 

柔軟性、耐薬品性に優れたヒーターであらゆる形状にフィットします。 厳寒期にシールやラベル等を保温し製造工程でのロスを防ぎます。

シリコンラバーシートの間に発熱体を挟み込み薄いシート状に仕上たヒーターです。一般的なカーボンタイプと異なり、ニッケル合金抵抗体のパターン設計のため、被過熱物の形状に合わせて丸形、三角形、穴開けなど自由に製作できます。300℃(Hタイプ)でも使用可能で柔軟性、耐薬品性、熱応答性に優れ、加熱物にフィットし効率よく熱を伝導する事ができます。また、ドラム缶や一斗缶といった、あらゆる形状にフィットして効率よく暖めます。理化学機器、医療用機器など幅広く使用されております。また、独特な製造方法(製法特許)のため、1枚からでも短納期で、しかも、安価に製作ができます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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【半導体製造向け】シリコンラバーヒーター

均熱を最適化し、半導体製造の品質向上に貢献します。

半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、温度管理が非常に重要です。特に、ウェーハや基板の均熱は、製造プロセスにおける歩留まりや製品性能に大きく影響します。温度ムラは、製品の品質低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社のシリコンラバーヒーターは、均熱性に優れ、精密な温度管理を実現することで、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの均熱 ・基板の均熱 ・半導体製造装置の温度管理 【導入の効果】 ・温度分布の均一化による品質向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上

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【研究開発向け】シリコンラバーヒーター

柔軟性に優れ、実験の温度管理をサポート。1枚から製作可能。

研究開発の現場では、実験の再現性と精度の向上が常に求められます。特に、温度管理は実験結果に大きな影響を与えるため、正確で安定した加熱が不可欠です。従来の加熱方法では、温度分布の偏りや、加熱対象の形状への適合性の問題がありました。シリコンラバーヒーターは、柔軟性があり、被加熱物の形状にフィットするため、均一な加熱を実現し、実験の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・温度管理が必要な実験 ・試作品の加熱 ・各種分析装置への組み込み 【導入の効果】 ・均一な温度分布の実現 ・実験の再現性向上 ・多様な形状への対応 ・短納期での納品

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