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リソグラフィーシステム - メーカー・企業と製品の一覧

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【マーケットレポート】極端紫外リソグラフィー システム市場

世界の極端紫外線リソグラフィー(EUVL)システム市場は2031年までに750億米ドルに達すると予想

世界の極紫外線リソグラフィー(EUVL)システム市場は目覚ましい成長を遂げており、2022年の収益は100億米ドルに達します。最近の市場分析によると、市場は急激に拡大し、2031年までに750億米ドルに達すると予測されています。 この大幅な成長軌道は、2023 年から 2031 年までの予測期間中の 25.1% の年平均成長率 (CAGR) を反映しています。次世代リソグラフィー (NGL) 技術の基礎である極端紫外線リソグラフィー (EUVL) システムは、半導体製造プロセスに革命をもたらしています。 世界的に。 極端紫外線リソグラフィー (EUVL) は半導体製造の最前線にあり、比類のない精度と効率でマイクロチップやマイクロプロセッサーを製造できるようになります。 30nm ほどの小さなラインを印刷できる EUVL システムは、従来の光リソグラフィー方法から大きな進歩をもたらします。 応募方法は[PDFダウンロード]ボタンからご確認いただくか、関連リンクから直接ご応募ください。

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