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高繰り返し・長寿命・コンパクトなエキシマレーザー！
当社では、GAM LASER社製の『エキシマレーザー』を取り扱っております。 『エキシマレーザー』は、希ガスやハロゲンなどの混合ガスを用いて レーザー光を発生させる装置で、半導体リソグラフィ（ステッパー）、 インクジェットノズルの穴あけ、液晶アニーリングなど様々な分野で 利用されております。 【特長】 ■ダイレクトにUVレンジの光が取り出せる ■高ピークパワーのパルス発振 ■アブレーション加工のため、熱影響が少ない ■ガスを入れ替えるだけで数種類の波長が発振できる ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
元素/同位体分析を改善！高い信号対雑音比でより良いデータを取得します
当社の製品では、USPレーザで表面をテクスチャリングするか、分析方法に ナノ秒またはウルトラファーストレーザを使用します(例: LIBS、LA-ICP-MS)。 強靭で繊細な材料の表面はすべて、熱損傷なしにウルトラファーストレーザビーム またはUVエキシマレーザでパターン化可能。 193nmのエキシマレーザは、粒子サイズが小さく、信号強度が高く、固有の分別が 低くなっています。 【特長】 ■ナノ秒レーザフレアを使用して、高い信号対雑音比でより良いデータを取得 ■エキシマレーザまたはfsレーザ増幅器を使用して、固体サンプルの元素および 同位体組成を分析 ■レーザ誘起周期構造(LIPS)を含む究極の表面パターンを作成 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
