後洗浄液×関東化学株式会社 - メーカー・企業と製品の一覧

CMP後洗浄液『CMPシリーズ』

金属不純物やパーティクルの除去性に優れた各種CMP後洗浄液

CMP後のウェーハ上に残留した金属不純物やパーティクル、有機物を効率良く洗浄することが可能なCMP後洗浄液です。 各種金属材料や層間絶縁膜に対してダメージを与えません。 【特徴】 ■CMP後の各種汚染物に対して優れた洗浄性 ■希釈使用が可能（30～100倍程度） ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 企業：関東化学株式会社 電子材料事業本部
• 価格：応相談

• 表面処理受託サービス