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サンプル温度・ガス流量・圧力を計測し、反応挙動を見える化
「管状炉」は、円筒状の加熱部にセラミック反応管を配置し、各種雰囲気ガスを流しながら熱処理を行うコンパクトな炉です。 小型・低コストながら、サンプル温度・ガス流量・圧力の計測に対応でき、反応条件の把握や材料評価に適しています。 当社の管状炉は、雰囲気ガス条件下での材料反応評価、反応メカニズム解析、新規素材の初期評価に使用可能です。 【特長】 ■ 各種ガスを流しながら加熱可能 ■ サンプル温度・流量・圧力の計測に対応 ■ 反応開始・変化点・温度依存性の確認に有効 ■ 小型・低コストで研究開発用途に適用しやすい ■ 条件に応じて計測・ガスラインのカスタム対応可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
焼成中の温度・流量・圧力を同期記録し、条件出しを効率化
当社では、セラミックス焼成プロセスの条件検討に適した「管状炉」を取り扱っております。 セラミックス焼成では、温度、圧力、雰囲気ガス、流量条件が焼成結果に大きく影響します。 汎用管状炉では焼成前後の評価に留まり、焼成中の温度変化、圧力変動、ガス流れを把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、焼成中の温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで記録できます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力を同期ロギング ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気ラインを設計可能 ■ 真空、不活性ガス、H2など各種雰囲気に対応 ■ セラミックス焼成条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
温度・流量・圧力を同期記録し、金属・合金の熱処理条件を最適化
当社では、金属・合金材料の熱処理条件検討に適した「管状炉」を取り扱っております。 金属・合金の焼成や熱処理では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気条件が、合金組成、組織変化、酸化・還元挙動、品質ばらつきに影響します。 汎用管状炉では焼成前後の評価に留まり、熱処理中の温度変化、圧力変動、ガス流れを把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、熱処理中の温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで記録できます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力を同期ロギング ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気ラインを設計可能 ■ 真空、不活性ガス、H2など各種雰囲気に対応 ■ 金属・合金の熱処理条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
温度・流量・圧力を同期記録し、電極焼成条件を最適化
当社では、電池電極材の焼成条件検討に適した「管状炉」を取り扱っております。 電極材料の焼成では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気条件が、均一性・特性ばらつき・不良発生に影響します。 汎用管状炉では焼成前後の評価に留まり、焼成中の反応挙動や条件変化を把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、焼成中の温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで記録できます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力を同期ロギング ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気ラインを設計可能 ■ 真空、不活性ガス、H2など各種雰囲気に対応 ■ 電極焼成条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
