雰囲気炉(cvd) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

マルチ雰囲気炉｜雰囲気焼成から熱CVDプロセスまで対応

ガス切替＋加湿/気化器ユニットで、焼成・反応評価・熱CVDを1台で検討

「マルチ雰囲気炉」は、真空・不活性雰囲気に加え、H2、NH3、O2など複数の雰囲気ガスを切り替えながら加熱できる汎用型の雰囲気炉です。 酸化、還元、窒化、加湿雰囲気での焼成など、複雑な反応条件を1台で再現できるため、材料開発・表面処理・粉末焼成・反応評価に適しています。 また、Wetterによる加湿ラインだけでなく、気化器を組み合わせることで、液体原料や有機金属溶液を気化導入する熱CVD炉としての構成も検討可能です。 薄膜形成、表面改質、コーティング、前駆体反応評価など、通常の雰囲気焼成より一歩進んだプロセス開発にも活用できます。 【特長】 ■ 真空、不活性、酸化、還元、窒化雰囲気に対応 ■ H2、NH3、O2、N2、Arなど各種ガスを切替可能 ■ Wetter接続により加湿雰囲気焼成に対応 ■ 気化器接続により熱CVDプロセスにも拡張可能 ■ 最高温度1700℃、昇温速度10℃/minに対応 ■ 排気・除害・安全機器との連携も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。