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細霧を発生可能！スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル
「均等分布ノズル(少量噴霧／分解可能) K」は、細霧が発生可能なスプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズルです。 スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用し、旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れています。 全形番にストレーナー標準装備。公害防止、機械、電気電子、紙・パルプ・印刷、食品等の業界での使用に最適です。 【特徴】 ○小噴量空円錐ノズル ○環状のスプレーパターン ○旋流室から噴口までセラミック形成 ○耐摩耗性に優れる ○細霧を発生可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
微霧を発生可能！環状スプレーパターンの極小噴量空円錐ノズル
「均等分布ノズル(極少量噴霧／分解可能) KB」は、1流体ノズルの中で最高の微粒化性能を持つ、環状スプレーパターンの極小噴量空円錐ノズルです。 微霧を発生可能。本体噴口部およびクローザーにセラミックを使用し、旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れます。 ネジサイズは全て管用平行オスネジ。全形番にストレーナー標準装備しています。 【特徴】 ○極小噴量空円錐ノズル ○環状のスプレーパターン ○1流体中最高級の微粒化精度を持つ ○耐摩耗性に優れる ○微霧を発生可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
細霧発生小噴量形！スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル
「均等分布ノズル(少量噴霧) KKBP」は、スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズルです。 独特のワーラー設計で異物通過径が大きく、目詰まりに強い細霧発生ノズル。 ネジサイズは2タイプ、管用テーパーオスネジと管用平行オスネジ。部品点数が少なくコンパクトな設計。ノズル本体とワーラーの2部品で構成され、ワーラーは取外し可能でメンテナンスが容易です。 【特徴】 ○空円錐ノズル 細霧発生小噴量形 ○スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル ○異物通過径が大きく、目詰まりしにくい ○部品点数が少なくコンパクトな設計 ○ワーラーが取外し可能、メンテナンスが容易 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
環状スプレーパターンの空円錐噴霧を2方向に発生させる空円錐ノズル
「均等分布ノズル(大量噴霧／2方向) TWAA」は、TAAノズル(スラリー液噴霧ノズル)の2方向(180°対向)噴霧が可能な空円錐ノズルです。 ２方向噴霧なので、従来2つ利用していたノズルを1つにまとまるため、装置の簡素化・メンテナンス時間の節約ができます。 全セラミック製のため軽量(金属製の1/2以下)で、耐摩耗性が抜群に優れたSiC(窒化珪素結合炭化珪素)を使用しています。 【特徴】 ○環状のスプレーパターン ○目詰まりしにくい構造 ○流入方向に対し、直角に噴霧するアングルタイプ ○2方向に噴霧 ○耐摩耗性に優れる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
大量噴霧のフランジ形！軽量で環状スプレーパターンの空円錐ノズル
「均等分布ノズル(大噴量フランジ形) TAA」は、インボリュート形の理想的旋流室設計により、低圧時も安定したスプレーパターンで環状の空円錐噴霧を発生させることができる空円錐ノズルです。 耐摩耗性が抜群に優れたSiC(窒化珪素結合炭化珪素)を使用。配管との接続はフランジ締結。全セラミック製のため軽量(金属製の1/2以下)です。 排煙脱硫装置吸収塔やスラリー液の噴霧等での使用に最適です。 【特徴】 ○インボリュート形で低圧時も安定して噴霧可能 ○スプレーパターンが環状の空円錐噴霧を発生 ○耐摩耗性が抜群に優れたSiCを使用 ○全セラミック製のため軽量 ○流入方向に対し、直角に噴霧するアングルタイプ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
