ターゲット - 企業ランキング(全25社)

更新日：2026年07月29日集計期間:2026年07月01日〜2026年07月28日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
株式会社スパッタコア本社	所在地大阪府事業内容＜私どものターゲット材について＞ 1.スパッタリングの効率についてはターゲット材の品質が重要な要素となります。私共が提供するターゲット材は下記のような特徴がありスパッタリング効率を高めることができます ■膜の付着力が強い ■寸法公差が良い（偏肉、偏心が少なく均一にターゲット材... 主要取引先	鉄(Fe)スパッタリングターゲットFe 蒸着用アイロンターゲット応相談	■実際密度≧90％ ■製造方法：真空溶錬法 ■サビ防止処理出荷	【主な用途】 ■研究開発用 ■薄膜形成; ■超伝導材料; ■耐熱・耐食性用途
		アルミシリコン(Al-Si)ターゲット応相談	■組成公差:+/-0.3wt% ■図面通り加工可能 ■表面、内面キスなし ■大きいサイズも対応可能	【主な用途】フラットパネルディスプレイ (FPD);磁気記録媒体および磁気センサー
		銅(Cu)ターゲット応相談	■純度：3N7、4N、4N5、5N、5N5、6N ■結晶：40‐80um ■材質型番：無酸素銅、C1020、C18200、C18150...	【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロン ■表示技術(LCD/OLED) ■光学コーティング ■新エネルギー ■その他
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株式会社スパッタコア本社

所在地

大阪府

事業内容

＜私どものターゲット材について＞ 1.スパッタリングの効率についてはターゲット材の品質が重要な要素となります。私共が提供するターゲット材は下記のような特徴がありスパッタリング効率を高めることができます ■膜の付着力が強い ■寸法公差が良い（偏肉、偏心が少なく均一にターゲット材...

主要取引先

代表製品

鉄(Fe)スパッタリングターゲットFe 蒸着用アイロンターゲット

概要

■実際密度≧90％ ■製造方法：真空溶錬法 ■サビ防止処理出荷

用途/実績例

【主な用途】 ■研究開発用 ■薄膜形成; ■超伝導材料; ■耐熱・耐食性用途

アルミシリコン(Al-Si)ターゲット

概要

■組成公差:+/-0.3wt% ■図面通り加工可能 ■表面、内面キスなし ■大きいサイズも対応可能

用途/実績例

【主な用途】フラットパネルディスプレイ (FPD);磁気記録媒体および磁気センサー

銅(Cu)ターゲット

概要

■純度：3N7、4N、4N5、5N、5N5、6N ■結晶：40‐80um ■材質型番：無酸素銅、C1020、C18200、C18150...

用途/実績例

【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロン ■表示技術(LCD/OLED) ■光学コーティング ■新エネルギー ■その他
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所在地

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事業内容

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