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堆積装置 - 企業ランキング(全6社)

更新日： 集計期間:2025年07月09日〜2025年08月05日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
株式会社ハイテック・システムズ 株式会社ハイテック・システムズ
サーマル式ALD原子層堆積装置
サーマル式ALD原子層堆積装置

応相談

 ALD原子層堆積装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の製品と技術導入をハイテックシステムズがサポートします！ ●高精度 デジタル制御により一層づつ堆積　精密な厚さを実現 エクスポージャーモードの使用により超高アスペクト比構造体への成膜が可能 ●低価格 導入を容易にするコストパーフォーマンス ALD Vapor Trapを装備。反応室の残存プリカーサーを膜付けし、クリーンな排気。 ●使いやすい 新たなオプションが加わり、さらに多彩な成膜が可能 LVPD（低蒸気圧プリカーサー供給）システム SAMｓ（自己組織化単分子膜）　　　 その場計測（エリプソ、QCM） ●LavVIEWを使用した分かりやすい操作システム、標準的レシピの提供 本ALD装置の詳細については、お気軽にご相談下さい。 ALD装置は、欠陥が無く優れた保護特性を備えた薄膜を形成する技術として半導体、フラットパネルディスプレイ（FPD）、MEMS、照明、医療など幅広い分野に貢献します。
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  1. 株式会社ハイテック・システムズ 株式会社ハイテック・システムズ
    代表製品
    サーマル式ALD原子層堆積装置サーマル式ALD原子層堆積装置
    概要
    ALD原子層堆積装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の製品と技術導入をハイテックシステムズがサポートします！ ●高精度 デジタル制御により一層づつ堆積　精密な厚さを実現 エクスポージャーモードの使用により超高アスペクト比構造体への成膜が可能 ●低価格 導入を容易にするコストパーフォーマンス ALD Vapor Trapを装備。反応室の残存プリカーサーを膜付けし、クリーンな排気。 ●使いやすい 新たなオプションが加わり、さらに多彩な成膜が可能 LVPD（低蒸気圧プリカーサー供給）システム SAMｓ（自己組織化単分子膜）　　　 その場計測（エリプソ、QCM） ●LavVIEWを使用した分かりやすい操作システム、標準的レシピの提供 本ALD装置の詳細については、お気軽にご相談下さい。
    用途/実績例
    ALD装置は、欠陥が無く優れた保護特性を備えた薄膜を形成する技術として半導体、フラットパネルディスプレイ（FPD）、MEMS、照明、医療など幅広い分野に貢献します。
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