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CVD - Company Ranking(9 companies in total)

Last Updated: Aggregation Period:2026年02月18日〜2026年03月17日
This ranking is based on the number of page views on our site.

Company Name Featured Products
Product Image, Product Name, Price Range overview Application/Performance example
ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。 トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安... 【用途】  ・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG)  ・パワー半導体用層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 【納入実績】  ・...
密閉式チャンバー内で、ウェハを成膜面を下に向け裏面を吸着した状態で加熱させ、プロセスガスを下部より吹き上げながら成膜するFace-down成膜方式の採用により、低パーティクルで安全かつ高品質な成膜を実現しました。特許取得済のウェハ反り矯正機能により、SiCウェハの様な反りの大きな... 【用途】  ・パワー半導体用層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)  ・光導波路(NSG/BPSG) 【納入実績】  ・国内外半導体デバイスメーカー  ・大...
ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。 トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安... 【用途】  ・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 【納入実績】  ・国内外ウェハメーカー  ・半導体デバイスメーカー  ・AMAXシリーズ合計: 180台以上
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  1. Featured Products
    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
    overview
    ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。 トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安...
    Application/Performance example
    【用途】  ・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG)  ・パワー半導体用層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 【納入実績】  ・...
    高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)
    overview
    密閉式チャンバー内で、ウェハを成膜面を下に向け裏面を吸着した状態で加熱させ、プロセスガスを下部より吹き上げながら成膜するFace-down成膜方式の採用により、低パーティクルで安全かつ高品質な成膜を実現しました。特許取得済のウェハ反り矯正機能により、SiCウェハの様な反りの大きな...
    Application/Performance example
    【用途】  ・パワー半導体用層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)  ・光導波路(NSG/BPSG) 【納入実績】  ・国内外半導体デバイスメーカー  ・大...
    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
    overview
    ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。 トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安...
    Application/Performance example
    【用途】  ・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 【納入実績】  ・国内外ウェハメーカー  ・半導体デバイスメーカー  ・AMAXシリーズ合計: 180台以上