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CVD装置 - 企業ランキング(全23社)

更新日: 集計期間:2026年06月10日〜2026年07月07日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成
【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成
PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜(Si3N4、SiO2等)の形成を目的としており、最先端の研究か... ●シリコン窒化膜の形成 ●シリコン酸化膜の形成 ●アモルファスシリコン膜の形成 ●その他薄膜形成
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  1. 代表製品
    プラズマCVD装置『PD-270STLC/PD-2201LC』プラズマCVD装置『PD-270STLC/PD-2201LC』
    概要
    【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送
    用途/実績例
    【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成
    プラズマCVD装置『PD-270STLC/PD-2201LC』プラズマCVD装置『PD-270STLC/PD-2201LC』
    概要
    【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送
    用途/実績例
    【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成
    プラズマCVD装置プラズマCVD装置
    概要
    PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜(Si3N4、SiO2等)の形成を目的としており、最先端の研究か...
    用途/実績例
    ●シリコン窒化膜の形成 ●シリコン酸化膜の形成 ●アモルファスシリコン膜の形成 ●その他薄膜形成