CVD装置 - 企業ランキング(全23社)
更新日: 集計期間:2026年06月10日〜2026年07月07日
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| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送 | 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成 | ||
| 【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送 | 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成 | ||
プラズマCVD装置
応相談 |
PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜(Si3N4、SiO2等)の形成を目的としており、最先端の研究か... | ●シリコン窒化膜の形成 ●シリコン酸化膜の形成 ●アモルファスシリコン膜の形成 ●その他薄膜形成 | |
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- 代表製品
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プラズマCVD装置『PD-270STLC/PD-2201LC』
- 概要
- 【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送
- 用途/実績例
- 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成
プラズマCVD装置『PD-270STLC/PD-2201LC』
- 概要
- 【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送
- 用途/実績例
- 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成
プラズマCVD装置
- 概要
- PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜(Si3N4、SiO2等)の形成を目的としており、最先端の研究か...
- 用途/実績例
- ●シリコン窒化膜の形成 ●シリコン酸化膜の形成 ●アモルファスシリコン膜の形成 ●その他薄膜形成
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