CVD装置 - 企業ランキング(全22社)

更新日：2025年10月22日集計期間:2025年09月24日〜2025年10月21日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
サムコ株式会社	所在地京都府従業員数 170 事業内容半導体等電子部品の製造・販売を行っています。最先端の薄膜形成用プラズマCVD装置やドライエッチング装置、ドライ洗浄装置を製造・販売しており、世界中の生産現場や研究者の皆様へ提供しています。主要取引先大手電子部品メーカー大学・官庁・研究機関	SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置応相談	PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。	● 光導波路など光学部品の製造 ● マイクロマシーンのマスク形成 ● プラスチック材料の保護膜の形成 ● 高アスペクト比段差への被膜
		【資料】ノンボッシュプロセスを用いたシリコン加工データ応相談
		プラズマCVD装置応相談	PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）の形成を目的としており、最先端の研究か...	●シリコン窒化膜の形成 ●シリコン酸化膜の形成 ●アモルファスシリコン膜の形成 ●その他薄膜形成
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サムコ株式会社

所在地

京都府

従業員数

170

事業内容

半導体等電子部品の製造・販売を行っています。最先端の薄膜形成用プラズマCVD装置やドライエッチング装置、ドライ洗浄装置を製造・販売しており、世界中の生産現場や研究者の皆様へ提供しています。

主要取引先

大手電子部品メーカー大学・官庁・研究機関

代表製品

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

概要

PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。

用途/実績例

● 光導波路など光学部品の製造 ● マイクロマシーンのマスク形成 ● プラスチック材料の保護膜の形成 ● 高アスペクト比段差への被膜

【資料】ノンボッシュプロセスを用いたシリコン加工データ

概要

用途/実績例

プラズマCVD装置

概要

PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）の形成を目的としており、最先端の研究か...

用途/実績例

●シリコン窒化膜の形成 ●シリコン酸化膜の形成 ●アモルファスシリコン膜の形成 ●その他薄膜形成
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所在地

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事業内容

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