CVD装置 - Company Ranking(23 companies in total)
Last Updated: Aggregation Period:2026年05月27日〜2026年06月23日
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Display Company Information
| Company Name | Featured Products | ||
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| Product Image, Product Name, Price Range | overview | Application/Performance example | |
| 【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送 | 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成 | ||
| 【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送 | 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成 | ||
| PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜(SiO2)形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。 | ● 光導波路など光学部品の製造 ● マイクロマシーンのマスク形成 ● プラスチック材料の保護膜の形成 ● 高アスペクト比段差への被膜 | ||
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- Featured Products
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プラズマCVD装置『PD-270STLC/PD-2201LC』
- overview
- 【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送
- Application/Performance example
- 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成
プラズマCVD装置『PD-270STLC/PD-2201LC』
- overview
- 【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送
- Application/Performance example
- 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成
SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置
- overview
- PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜(SiO2)形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。
- Application/Performance example
- ● 光導波路など光学部品の製造 ● マイクロマシーンのマスク形成 ● プラスチック材料の保護膜の形成 ● 高アスペクト比段差への被膜
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サムコ株式会社