アライナ - 企業ランキング(全14社)
更新日: 集計期間:2025年05月07日〜2025年06月03日
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企業情報を表示
会社名 | 代表製品 | ||
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製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
![]() マスクレスアライナー『MLA150』
5000万円 ~ 1億円 |
最小基板サイズ:5 mm x 5 mm 最大露光面積:6インチx 6インチ(オプションで8インチx 8インチ) 0.6μmまでの最小構造サイズ リアルタイムオートフォーカス(標準:空圧式、オプション:光学式) 前面と背面の位置合わせ(オプション:バックサイドアライメント機構) 高アスペクト比モード(超厚レジスト露光) 使いやすい操作ソフトウェア キーワード:レーザー露光装置、レーザー描画装置、直描装置、直接描画装置、マスクレス、微細加工 | マイクロ光学、マイクロ流体、生物医学分野, MEMS, 半導体、FPD, センサー, MOEMS, 導波路, 材料評価・開発, ナノチューブ、グラフェン、マスク製造。 | |
![]() マスクレスアライナー『uMLA』(マイクロ・エム・エル・エー)
5000万円 ~ 1億円 |
描画領域:5 mm〜100mm角(オプション 125mm角へ拡張可能) 最小図形寸法:最小0.6 µm(最小寸法1um, 3umレンズセット有り) リアルタイムオートフォーカスシステム(標準:空圧式、オプション:光学式) 使いやすい操作ソフトウェア オプション多数有り:フィールドアライメント、ベクターモード、ドローモード、高速化、専用テーブル。 キーワード:レーザー露光装置、直描装置、直接描画装置、マスクレス | 回路、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学などのマイクロストラクチャ | |
![]() マスクレスアライナー『MLA300』
5000万円 ~ 1億円 |
最大露光面積:300 mm x 300 mm 最小フィーチャサイズ:1.5μm 最小ラインアンドスペース:2 µm 最大書き込み速度:5000 mm2 / min(@405 nm、1モジュール時) リアルタイムオートフォーカス 前面と背面の位置合わせ フルオートローダー 複数モジュール搭載可 | センサー、センサーIC、MEMSデバイス、ディスクリート電子コンポーネント、アナログおよびデジタルIC、ASIC、パワーエレクトロニクス、OLEDディスプレイ、および高度なパッケージングアプリケーション向け | |
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- 代表製品
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マスクレスアライナー『MLA150』
- 概要
- 最小基板サイズ:5 mm x 5 mm 最大露光面積:6インチx 6インチ(オプションで8インチx 8インチ) 0.6μmまでの最小構造サイズ リアルタイムオートフォーカス(標準:空圧式、オプション:光学式) 前面と背面の位置合わせ(オプション:バックサイドアライメント機構) 高アスペクト比モード(超厚レジスト露光) 使いやすい操作ソフトウェア キーワード:レーザー露光装置、レーザー描画装置、直描装置、直接描画装置、マスクレス、微細加工
- 用途/実績例
- マイクロ光学、マイクロ流体、生物医学分野, MEMS, 半導体、FPD, センサー, MOEMS, 導波路, 材料評価・開発, ナノチューブ、グラフェン、マスク製造。
マスクレスアライナー『uMLA』(マイクロ・エム・エル・エー)
- 概要
- 描画領域:5 mm〜100mm角(オプション 125mm角へ拡張可能) 最小図形寸法:最小0.6 µm(最小寸法1um, 3umレンズセット有り) リアルタイムオートフォーカスシステム(標準:空圧式、オプション:光学式) 使いやすい操作ソフトウェア オプション多数有り:フィールドアライメント、ベクターモード、ドローモード、高速化、専用テーブル。 キーワード:レーザー露光装置、直描装置、直接描画装置、マスクレス
- 用途/実績例
- 回路、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学などのマイクロストラクチャ
マスクレスアライナー『MLA300』
- 概要
- 最大露光面積:300 mm x 300 mm 最小フィーチャサイズ:1.5μm 最小ラインアンドスペース:2 µm 最大書き込み速度:5000 mm2 / min(@405 nm、1モジュール時) リアルタイムオートフォーカス 前面と背面の位置合わせ フルオートローダー 複数モジュール搭載可
- 用途/実績例
- センサー、センサーIC、MEMSデバイス、ディスクリート電子コンポーネント、アナログおよびデジタルIC、ASIC、パワーエレクトロニクス、OLEDディスプレイ、および高度なパッケージングアプリケーション向け
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