エッチング - 企業ランキング(全24社)
更新日： 集計期間:2025年07月02日〜2025年07月29日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
|---|---|---|---|
| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【その他の特長】 ■Marathon gridsは、一般的なグリッドと比較して3倍の長寿命化達成 (他社製品への搭載可) ■独自技術によりRFシャントおよびアノード消失を防止したイオンガンを搭載 ■プラズマCVD、ドライエッチャー等の当社装置とのクラスター化も可能 ■複数ターゲットの搭載、デュアル・イオンガン・システムによるイオンアシスト機能等、 多彩な機能を選択可 | 【用途】 ■FeNi,FeCoなどの強磁性体やPZT,AlScN,LiTaO3,LiNbO3などの強誘電体を始めとした 難しいエッチングプロセス ■Ta,Ti,W等の金属膜をはじめ、Ta2O5,Nb2O5等の酸化膜や、様々な材料の薄膜をバルクに 近い密度と高純度、優れた均一性での成膜 | ||
|
---
--- |
--- | --- | |
プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
-
- 代表製品
-
イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)
- 概要
- 【その他の特長】 ■Marathon gridsは、一般的なグリッドと比較して3倍の長寿命化達成 (他社製品への搭載可) ■独自技術によりRFシャントおよびアノード消失を防止したイオンガンを搭載 ■プラズマCVD、ドライエッチャー等の当社装置とのクラスター化も可能 ■複数ターゲットの搭載、デュアル・イオンガン・システムによるイオンアシスト機能等、 多彩な機能を選択可
- 用途/実績例
- 【用途】 ■FeNi,FeCoなどの強磁性体やPZT,AlScN,LiTaO3,LiNbO3などの強誘電体を始めとした 難しいエッチングプロセス ■Ta,Ti,W等の金属膜をはじめ、Ta2O5,Nb2O5等の酸化膜や、様々な材料の薄膜をバルクに 近い密度と高純度、優れた均一性での成膜
-
プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
すべてを閲覧するには会員登録（無料）が必要です。
すでに会員の方はこちら
