ソース - 企業ランキング(全35社)
更新日: 集計期間:2025年10月22日〜2025年11月18日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【メリット(抜粋)】 ■短時間で交換後、プロセス再起動できるよう、個別ワイヤーが取り付けられた分割ソース設計 ■真空フランジは蓋またはドアから外さず作業可能 ■ワイヤーは通電の有無を選択できるので、製膜装置の生産稼働時間延長に役立つ ■プラズマ不使用プロセス:イオン衝撃や... | 【用途】 ■ガス分配システム | ||
ホローカソードソース『HCS』
応相談 |
【メリット(抜粋)】 ■シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを実現 ■高密度プラズマの処理に関して、CCPおよびICPに匹敵し、コストはICPより低廉 ■RFとVHFの電源選択可能 ■低い電源出力 ■低放電電圧で穏やかな処理を実現 | 【用途】 ■表面処理 | |
リニアイオンソース『LION』
応相談 |
【メリット】 ■最高で4週間のキャンペーン時間 ■優れたエッチング均一性 ■簡単なカスタマイズ | 【用途】 ■前処理と表面改質に適したコンポーネント | |
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- 代表製品
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ホットワイヤーソース『HWCV/DCAT-CVD/ICVD』
- 概要
- 【メリット(抜粋)】 ■短時間で交換後、プロセス再起動できるよう、個別ワイヤーが取り付けられた分割ソース設計 ■真空フランジは蓋またはドアから外さず作業可能 ■ワイヤーは通電の有無を選択できるので、製膜装置の生産稼働時間延長に役立つ ■プラズマ不使用プロセス:イオン衝撃や...
- 用途/実績例
- 【用途】 ■ガス分配システム
ホローカソードソース『HCS』
- 概要
- 【メリット(抜粋)】 ■シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを実現 ■高密度プラズマの処理に関して、CCPおよびICPに匹敵し、コストはICPより低廉 ■RFとVHFの電源選択可能 ■低い電源出力 ■低放電電圧で穏やかな処理を実現
- 用途/実績例
- 【用途】 ■表面処理
リニアイオンソース『LION』
- 概要
- 【メリット】 ■最高で4週間のキャンペーン時間 ■優れたエッチング均一性 ■簡単なカスタマイズ
- 用途/実績例
- 【用途】 ■前処理と表面改質に適したコンポーネント
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フォンアルデンヌジャパン株式会社