ターゲット - 企業ランキング(全26社)
更新日： 集計期間:2025年12月24日〜2026年01月20日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
ハフニュウム(Hf)ターゲット
応相談 |
■高純度と均一性 ・純度≧4N5 工業用Hfターゲットの純度は通常≧99.9％(3N)であり、 高純度Hfターゲットは99.995％(4N5)以上に達することができる ・結晶粒径が均一(80μm未満)であり、薄膜堆積の安定性と一致性を確保する ■ターゲット内部欠陥なし U... | 【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■光学・光電分野 ■医療・生体材料 | |
| ■製品実際密度≧99% ■導電性と非導電性両方可能（白色と黒色） ■実際抵抗値≦0.01Ω/cm | 【主な用途】 ■高い屈折率を利用して、カメラ用レンズなどの光学製品の小型化や高性能化に貢献 ■光学薄膜の形成に用いられ、紫外線やマイクロ波を制御するコーティング層にも利用 ■積層セラミックコンデンサ（MLCC）の誘電率を高める添加材として使われ，液晶パネル、ハードディスク、半... | ||
| ■組成公差:+/-0.3wt% ■図面通り加工可能 ■表面、内面キスなし ■大きいサイズも対応可能 | 【主な用途】 フラットパネルディスプレイ (FPD);磁気記録媒体および磁気センサー | ||
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株式会社スパッタコア 本社
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- 代表製品
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ハフニュウム(Hf)ターゲット
- 概要
- ■高純度と均一性 ・純度≧4N5 工業用Hfターゲットの純度は通常≧99.9％(3N)であり、 高純度Hfターゲットは99.995％(4N5)以上に達することができる ・結晶粒径が均一(80μm未満)であり、薄膜堆積の安定性と一致性を確保する ■ターゲット内部欠陥なし U...
- 用途/実績例
- 【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■光学・光電分野 ■医療・生体材料
酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット
- 概要
- ■製品実際密度≧99% ■導電性と非導電性両方可能（白色と黒色） ■実際抵抗値≦0.01Ω/cm
- 用途/実績例
- 【主な用途】 ■高い屈折率を利用して、カメラ用レンズなどの光学製品の小型化や高性能化に貢献 ■光学薄膜の形成に用いられ、紫外線やマイクロ波を制御するコーティング層にも利用 ■積層セラミックコンデンサ（MLCC）の誘電率を高める添加材として使われ，液晶パネル、ハードディスク、半...
アルミシリコン(Al-Si)ターゲット
- 概要
- ■組成公差:+/-0.3wt% ■図面通り加工可能 ■表面、内面キスなし ■大きいサイズも対応可能
- 用途/実績例
- 【主な用途】 フラットパネルディスプレイ (FPD);磁気記録媒体および磁気センサー
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株式会社スパッタコア 本社
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