フォトマスク - 企業ランキング(全7社)
更新日： 集計期間:2025年10月15日〜2025年11月11日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【その他の仕様・規格】 ■描画精度 ・Mode-A＋/Mode-A/Mode-B/Mode-C/Mode-D/Mode-E ■最小L/S（μm） ・0.75/1.0/2.0/3.0/5.0/8.0 ■短寸精度（μm） ・±0.075/±0.1/±0.2/±0.5/±0... | 【用途】 ■CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、 ディスプレイ、タッチパネル形成用など | ||
| 【掲載内容】 ・フォトマスクとは ・フォトマスクの種類 ・フォトマスクの構造 ・フォトマスクの作り方 | 【用途】 ■電子部品向け（半導体・液晶パネル・基板・MEMS）のパターン原版 ■キャリブレーションプレート(測定・装置の調整) | ||
| 【オプション加工詳細】 ●表面コーティング（クロムガラスマスクやエルマジョンガラスマスク） →撥水性や密着性向上による、防汚性・清掃性の向上や、膜面保護や擦傷防止による耐久性向上を実現します。 ●クロムガラスマスク向けコーティング →撥水・撥油性の向上により、汚れの固着を防止し... | 【用途】 ■PWB・FPC・電子部品等のパターン原版 ■キャリブレーションプレート(測定・装置の調整)（クロムガラスマスクのみ） | ||
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竹田東京プロセスサービス株式会社 湘南藤沢センター、北陸センター、テクノセンター
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- 代表製品
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『クロムマスク』電子部品向け（半導体・液晶パネル）フォトマスク
- 概要
- 【その他の仕様・規格】 ■描画精度 ・Mode-A＋/Mode-A/Mode-B/Mode-C/Mode-D/Mode-E ■最小L/S（μm） ・0.75/1.0/2.0/3.0/5.0/8.0 ■短寸精度（μm） ・±0.075/±0.1/±0.2/±0.5/±0...
- 用途/実績例
- 【用途】 ■CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、 ディスプレイ、タッチパネル形成用など
５スワイプでわかる！フォトマスクの基本 ※基礎知識資料進呈
- 概要
- 【掲載内容】 ・フォトマスクとは ・フォトマスクの種類 ・フォトマスクの構造 ・フォトマスクの作り方
- 用途/実績例
- 【用途】 ■電子部品向け（半導体・液晶パネル・基板・MEMS）のパターン原版 ■キャリブレーションプレート(測定・装置の調整)
フォトマスク（半導体・電子部品・プリント基板・LCD等向け）
- 概要
- 【オプション加工詳細】 ●表面コーティング（クロムガラスマスクやエルマジョンガラスマスク） →撥水性や密着性向上による、防汚性・清掃性の向上や、膜面保護や擦傷防止による耐久性向上を実現します。 ●クロムガラスマスク向けコーティング →撥水・撥油性の向上により、汚れの固着を防止し...
- 用途/実績例
- 【用途】 ■PWB・FPC・電子部品等のパターン原版 ■キャリブレーションプレート(測定・装置の調整)（クロムガラスマスクのみ）
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竹田東京プロセスサービス株式会社 湘南藤沢センター、北陸センター、テクノセンター
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