レーザーシステム - 企業ランキング(全19社)

更新日：2026年03月18日集計期間:2026年02月18日〜2026年03月17日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
トプティカフォトニクス株式会社営業部	所在地東京都従業員数 9 事業内容 ■レーザーシステムおよび光電子工学システム・機器・部品の取引、輸入、輸出、販売および調達 ■半導体レーザー又は光ファイバーに基づくレーザーシステムおよび光電子工学システムの開発、製造、組立、保守および修理 ■上記事業に付帯関連する一切の事業主要取引先	テーパーアンプレーザーシステム『TA pro』応相談	TA proは、トプティカ社の高出力チューナブル半導体レーザソリューションのフラッグシップ製品です。そのテーパーアンプ技術は、同じくpro technologyを採用したproマスターレーザーの優れたスペクトル特性を維持しながら、高いビーム品質、且つ高出力を可能にします。TA p...	原子およびイオン冷却 & トラッピングボーズアインシュタイン凝縮 & フェルミ縮退気体リュードベリ励起 (Rydberg Flyer for complete laser solutions) 光時計量子光学分光時間・長さ計測、度量衡計測
		CW, 266nm, 300mW 『TopWave 266』応相談	CW発振深紫外レーザー　TopWave 266 ・波長　266 nm ・出力　300 / 150 mW ・発振線幅 1 MHz以下・ビーム位置安定性　5 µrad / K ・ビーム品質　TEM00、M2: 1.3 ・RMSノイズ　0.3%以下・リモート制御機...	・半導体検査・ラマン分光・ラマン顕微鏡・ファイバブラッググレーティング・リソグラフィー・ディスクマスタリング・光部品検査・フォトルミネッセンス分析 (PL)
		DUV CW深紫外半導体レーザーシステム応相談	【主な仕様】 ●　発振波長：　190 .. 340 nm (半導体増幅器)、254 .. 390 nm (ファイバー増幅器) ●　線幅：　　　< 500 kHz、単一周波数発振 ●　出力：　　　　最大 700 mW, 波長により異なります。 ●　空間モード：　回...	・リソグラフィー(半導体露光装置) ・ホログラフィー・干渉計測・紫外分光・UVオプティクス検査・レーザー顕微鏡(CARS)
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トプティカフォトニクス株式会社営業部

所在地

東京都

従業員数

9

事業内容

■レーザーシステムおよび光電子工学システム・機器・部品の取引、輸入、輸出、販売および調達 ■半導体レーザー又は光ファイバーに基づくレーザーシステムおよび光電子工学システムの開発、製造、組立、保守および修理 ■上記事業に付帯関連する一切の事業

主要取引先

代表製品

テーパーアンプレーザーシステム『TA pro』

概要

TA proは、トプティカ社の高出力チューナブル半導体レーザソリューションのフラッグシップ製品です。そのテーパーアンプ技術は、同じくpro technologyを採用したproマスターレーザーの優れたスペクトル特性を維持しながら、高いビーム品質、且つ高出力を可能にします。TA p...

用途/実績例

原子およびイオン冷却 & トラッピングボーズアインシュタイン凝縮 & フェルミ縮退気体リュードベリ励起 (Rydberg Flyer for complete laser solutions) 光時計量子光学分光時間・長さ計測、度量衡計測

CW, 266nm, 300mW 『TopWave 266』

概要

CW発振深紫外レーザー　TopWave 266 ・波長　266 nm ・出力　300 / 150 mW ・発振線幅 1 MHz以下・ビーム位置安定性　5 µrad / K ・ビーム品質　TEM00、M2: 1.3 ・RMSノイズ　0.3%以下・リモート制御機...

用途/実績例

・半導体検査・ラマン分光・ラマン顕微鏡・ファイバブラッググレーティング・リソグラフィー・ディスクマスタリング・光部品検査・フォトルミネッセンス分析 (PL)

DUV CW深紫外半導体レーザーシステム

概要

【主な仕様】 ●　発振波長：　190 .. 340 nm (半導体増幅器)、254 .. 390 nm (ファイバー増幅器) ●　線幅：　　　< 500 kHz、単一周波数発振 ●　出力：　　　　最大 700 mW, 波長により異なります。 ●　空間モード：　回...

用途/実績例

・リソグラフィー(半導体露光装置) ・ホログラフィー・干渉計測・紫外分光・UVオプティクス検査・レーザー顕微鏡(CARS)
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所在地

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事業内容

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