成膜装置 - 企業ランキング(全38社)
更新日: 集計期間:2025年10月15日〜2025年11月11日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【チャンバーサイズ】 φ400mm 【成膜スペック】 ・磁性粉体や全固体電池、金属微粒子等粉体へ成膜の場合 ワーク種:磁性粉体、全固体電池(硫化物系、酸化物系)、金属微粒子他 ワークサイズ:ф100mm以上あれば形状を問いません 【適応膜】 SiO、Al2O3等... | ・全固体電池用粉体に対するSiO、Al2O3成膜 ・電池原料粉体、磁性粉体 ・粉体(QD粉、蛍光粉体等) | ||
| 【効果】 ・高硬度&耐摩耗性の向上 ・耐凝着性の改善 【膜種】 ta-C多層(下地層Cr/Cr-N) 【膜厚】 1~2μm 【応力】 50 GPa 【摩擦係数】 0.08 【処理温度】 180℃ | 【用途】 ・自動車の駆動部品(ギア・シャフト等) ・精密摺動部品(ベアリング等機械部品) 【参考実績】 「低温処理のため母材の硬度や品質を低下させず成膜」が可能で 母材材質は金属だけでなくゴム製品(Oリング等)にも可能。 【成膜のご相談やテスト成膜可能です】 クリエ... | ||
| 【効果】 ・金型の長寿命化(離型性向上&耐摩耗性向上) ・型汚れ低減により自動運転や清掃作業短縮が可能 【膜種】 CrN(多層)、TiN、TiAIN(多層) 【膜厚】 薄膜0.2~厚膜8μm 【応力】 20 GPa 【摩擦係数】 0.29~0.45 【処理温... | 【用途】 ・樹脂成型金型、ゴム成形金型 ・高精度光学レンズ成形金型 ・半導体モールド金型、精密金型、治工具 【参考実績】 「低温処理のため母材の硬度や品質を低下させず成膜」が可能で 母材材質は金属だけでなくゴム製品(Oリング等)にも可能。 【成膜のご相談やテスト成膜... | ||
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- 代表製品
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粉体低温(室温)ALD成膜装置 CMP-400
- 概要
- 【チャンバーサイズ】 φ400mm 【成膜スペック】 ・磁性粉体や全固体電池、金属微粒子等粉体へ成膜の場合 ワーク種:磁性粉体、全固体電池(硫化物系、酸化物系)、金属微粒子他 ワークサイズ:ф100mm以上あれば形状を問いません 【適応膜】 SiO、Al2O3等...
- 用途/実績例
- ・全固体電池用粉体に対するSiO、Al2O3成膜 ・電池原料粉体、磁性粉体 ・粉体(QD粉、蛍光粉体等)
低温DLC成膜装置 (多層ta-C、水素フリー)
- 概要
- 【効果】 ・高硬度&耐摩耗性の向上 ・耐凝着性の改善 【膜種】 ta-C多層(下地層Cr/Cr-N) 【膜厚】 1~2μm 【応力】 50 GPa 【摩擦係数】 0.08 【処理温度】 180℃
- 用途/実績例
- 【用途】 ・自動車の駆動部品(ギア・シャフト等) ・精密摺動部品(ベアリング等機械部品) 【参考実績】 「低温処理のため母材の硬度や品質を低下させず成膜」が可能で 母材材質は金属だけでなくゴム製品(Oリング等)にも可能。 【成膜のご相談やテスト成膜可能です】 クリエ...
低温DLC成膜装置 (多層a-C:H、水素含有Cr系)
- 概要
- 【効果】 ・金型の長寿命化(離型性向上&耐摩耗性向上) ・型汚れ低減により自動運転や清掃作業短縮が可能 【膜種】 CrN(多層)、TiN、TiAIN(多層) 【膜厚】 薄膜0.2~厚膜8μm 【応力】 20 GPa 【摩擦係数】 0.29~0.45 【処理温...
- 用途/実績例
- 【用途】 ・樹脂成型金型、ゴム成形金型 ・高精度光学レンズ成形金型 ・半導体モールド金型、精密金型、治工具 【参考実績】 「低温処理のため母材の硬度や品質を低下させず成膜」が可能で 母材材質は金属だけでなくゴム製品(Oリング等)にも可能。 【成膜のご相談やテスト成膜...
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