成膜装置 - 企業ランキング(全37社)

更新日：2026年04月08日集計期間:2026年03月11日〜2026年04月07日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
JSWアフティ株式会社	所在地東京都事業内容 ■ナノエレクトロニクス技術、オプトエレクトロニクス技術およびメカトロニ　クス技術の先端技術を応用した各種装置の設計、製造、販売、検査、据付、　修理、点検、保守部品供給、中古装置の斡旋業務および、これに付帯する業務主要取引先	固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』応相談	【仕様】 ■真空排気系　・成膜室：TMP（450 L/s）　・ロードロック室：RP（250 L/min）TMP兼用 ■成膜室　・チャンバ寸法：φ570x340mmm 　・基板サイズ：φ4インチ　・基板加熱：オプション　・ターゲット基板間距離：200mm ...	【用途】 ■酸化物、窒化物などの薄膜研究
		ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』応相談	【主な仕様】 ■到達圧力・処理室：3x10-5Pa以下・ロードロック室：3x10-4Pa以下 ■真空排気系・成膜室：ターボ分子ポンプ 1000l/sec ・ロードロック室：ターボ分子ポンプ ■成膜室・スパッタ源：ECR 2式、マグネトロン 2式（オプション...	半導体レーザー端面コート各種光学デバイス
		固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』応相談	【真空排気系仕様】 ■到達圧力プロセスモジュール: < 3×10-5Pa トランスファー室: < 3×10-4Pa ロードロック室: < 3×10-4Pa ■真空排気系プロセスモジュール: ターボ分子ポンプ 1300L/sec ドライポンプ: 600L/min ...
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JSWアフティ株式会社

所在地

東京都

事業内容

■ナノエレクトロニクス技術、オプトエレクトロニクス技術およびメカトロニ　クス技術の先端技術を応用した各種装置の設計、製造、販売、検査、据付、　修理、点検、保守部品供給、中古装置の斡旋業務および、これに付帯する業務

主要取引先

代表製品

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』

概要

【仕様】 ■真空排気系　・成膜室：TMP（450 L/s）　・ロードロック室：RP（250 L/min）TMP兼用 ■成膜室　・チャンバ寸法：φ570x340mmm 　・基板サイズ：φ4インチ　・基板加熱：オプション　・ターゲット基板間距離：200mm ...

用途/実績例

【用途】 ■酸化物、窒化物などの薄膜研究

ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

概要

【主な仕様】 ■到達圧力・処理室：3x10-5Pa以下・ロードロック室：3x10-4Pa以下 ■真空排気系・成膜室：ターボ分子ポンプ 1000l/sec ・ロードロック室：ターボ分子ポンプ ■成膜室・スパッタ源：ECR 2式、マグネトロン 2式（オプション...

用途/実績例

半導体レーザー端面コート各種光学デバイス

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

概要

【真空排気系仕様】 ■到達圧力プロセスモジュール: < 3×10-5Pa トランスファー室: < 3×10-4Pa ロードロック室: < 3×10-4Pa ■真空排気系プロセスモジュール: ターボ分子ポンプ 1300L/sec ドライポンプ: 600L/min ...

用途/実績例
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所在地

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事業内容

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