描画装置 - 企業ランキング(全10社)
更新日： 集計期間:2026年09月30日〜2026年10月27日
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| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
レーザー直接描画装置
応相談 |
◆主な仕様 PICOMASTER Start 100 ・Min Lin width ：800nm ・Gray scale ：4096: ・Substrate size ：Max 125 x 125 mm2 ・Light source ：Gan Laser 405nm ◆主な仕... | サブミクロンオーダーの加工に幅広い用途にお使い頂けます ・各種半導体の回路パターニング ・プリント基板（PCB）の回路パターン形成 ・マイクロレンズアレイ ・ホログラフィ ・マイクロ流体 ・回折格子形状（DOE) ・MEMS ・バイオチップ・マイクロ流路デバイス | |
電子ビーム(EB)描画装置
応相談 |
ドイツ/ドルトムントに本社を構えるRaith GMBH社の設立は1980年、電子線描画装置を中心としたナノファブリケーションのソリューションを40年以上わたり提供し続けています。 | アプリケーション例： ・化合物半導体 ・オプトエレクトロニクス ・ナノフォトニック ・量子コンピューター ・セキュリティ/ホログラム ・マスク ・他 | |
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伯東株式会社 本社
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- 代表製品
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レーザー直接描画装置
- 概要
- ◆主な仕様 PICOMASTER Start 100 ・Min Lin width ：800nm ・Gray scale ：4096: ・Substrate size ：Max 125 x 125 mm2 ・Light source ：Gan Laser 405nm ◆主な仕...
- 用途/実績例
- サブミクロンオーダーの加工に幅広い用途にお使い頂けます ・各種半導体の回路パターニング ・プリント基板（PCB）の回路パターン形成 ・マイクロレンズアレイ ・ホログラフィ ・マイクロ流体 ・回折格子形状（DOE) ・MEMS ・バイオチップ・マイクロ流路デバイス
電子ビーム(EB)描画装置
- 概要
- ドイツ/ドルトムントに本社を構えるRaith GMBH社の設立は1980年、電子線描画装置を中心としたナノファブリケーションのソリューションを40年以上わたり提供し続けています。
- 用途/実績例
- アプリケーション例： ・化合物半導体 ・オプトエレクトロニクス ・ナノフォトニック ・量子コンピューター ・セキュリティ/ホログラム ・マスク ・他
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伯東株式会社 本社
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