生産システム - 企業ランキング(全27社)
更新日： 集計期間:2025年04月30日〜2025年05月27日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
|---|---|---|---|
| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| ■ひとつの機械で3つのプロセスステップ: ミキシング / ホモジナイジング / ディスパージング ■完全な連続操作 ■高い固形分濃度が1パスで可能 (最大 80%、但し、製品に依る) ■プロセスに応じた各種ミキシングツール ■3段の分散レベルを組み込むことにより、ファインな粒子径が得られる ■湿式粉砕プロセスに適している ■固体の輸送による追加のエアー噛みがない ■高粘度にも対応 ■ダスト及び溶剤放出を防ぐ密閉システム ■粒子毎のウェッティングにより凝集防止 ■まとめて取り扱うので原材料のロスがない ■生産時間の大幅な短縮 ■原材料の破壊により投入要求の減少 ■コンパクトデザイン ■MHDラボ機から生産機へのスケールアップが容易 | ・高粘度スラリー（流動性のあるスラリー） ・高濃度スラリー ・化学品（カーボンスラリー、フィラー混合、接着剤等） ・電子材料（LIBスラリー、MLCCスラリー等） ※MHD2000シリーズの実績例 | ||
| ■ひとつの機械で3つのプロセスステップ: ミキシング / ホモジナイジング / ディスパージング ■完全な連続操作 ■高い固形分濃度が1パスで可能 (最大 80%、但し、製品に依る) ■プロセスに応じた各種ミキシングツール ■3段の分散レベルを組み込むことにより、ファインな粒子径が得られる ■湿式粉砕プロセスに適している ■固体の輸送による追加のエアー噛みがない ■高粘度にも対応 ■ダスト及び溶剤放出を防ぐ密閉システム ■粒子毎のウェッティングにより凝集防止 ■まとめて取り扱うので原材料のロスがない ■生産時間の大幅な短縮 ■原材料の破壊により投入要求の減少 ■コンパクトデザイン ■MHDラボ機から生産機へのスケールアップが容易 | ・高粘度スラリー（流動性のあるスラリー） ・高濃度スラリー ・化学品（カーボンスラリー、フィラー混合、接着剤等） ・電子材料（LIBスラリー、MLCCスラリー等） ※MHD2000シリーズの実績例 | ||
| ■ひとつの機械で3つのプロセスステップ: ミキシング / ホモジナイジング / ディスパージング ■完全な連続操作 ■高い固形分濃度が1パスで可能 (最大 80%、但し、製品に依る) ■プロセスに応じた各種ミキシングツール ■3段の分散レベルを組み込むことにより、ファインな粒子径が得られる ■湿式粉砕プロセスに適している ■固体の輸送による追加のエアー噛みがない ■高粘度にも対応 ■ダスト及び溶剤放出を防ぐ密閉システム ■粒子毎のウェッティングにより凝集防止 ■まとめて取り扱うので原材料のロスがない ■生産時間の大幅な短縮 ■原材料の破壊により投入要求の減少 ■コンパクトデザイン ■MHDラボ機から生産機へのスケールアップが容易 | ・高粘度スラリー（流動性のあるスラリー） ・高濃度スラリー ・化学品（カーボンスラリー、フィラー混合、接着剤等） ・電子材料（LIBスラリー、MLCCスラリー等） ※MHD2000シリーズの実績例 | ||
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IKAジャパン株式会社
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- 代表製品
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SDGsに貢献！CMC溶解用「省エネ」連続生産システム
- 概要
- ■ひとつの機械で3つのプロセスステップ: ミキシング / ホモジナイジング / ディスパージング ■完全な連続操作 ■高い固形分濃度が1パスで可能 (最大 80%、但し、製品に依る) ■プロセスに応じた各種ミキシングツール ■3段の分散レベルを組み込むことにより、ファインな粒子径が得られる ■湿式粉砕プロセスに適している ■固体の輸送による追加のエアー噛みがない ■高粘度にも対応 ■ダスト及び溶剤放出を防ぐ密閉システム ■粒子毎のウェッティングにより凝集防止 ■まとめて取り扱うので原材料のロスがない ■生産時間の大幅な短縮 ■原材料の破壊により投入要求の減少 ■コンパクトデザイン ■MHDラボ機から生産機へのスケールアップが容易
- 用途/実績例
- ・高粘度スラリー（流動性のあるスラリー） ・高濃度スラリー ・化学品（カーボンスラリー、フィラー混合、接着剤等） ・電子材料（LIBスラリー、MLCCスラリー等） ※MHD2000シリーズの実績例
SDGsに貢献！CMC溶解用「省エネ」連続生産システム
- 概要
- ■ひとつの機械で3つのプロセスステップ: ミキシング / ホモジナイジング / ディスパージング ■完全な連続操作 ■高い固形分濃度が1パスで可能 (最大 80%、但し、製品に依る) ■プロセスに応じた各種ミキシングツール ■3段の分散レベルを組み込むことにより、ファインな粒子径が得られる ■湿式粉砕プロセスに適している ■固体の輸送による追加のエアー噛みがない ■高粘度にも対応 ■ダスト及び溶剤放出を防ぐ密閉システム ■粒子毎のウェッティングにより凝集防止 ■まとめて取り扱うので原材料のロスがない ■生産時間の大幅な短縮 ■原材料の破壊により投入要求の減少 ■コンパクトデザイン ■MHDラボ機から生産機へのスケールアップが容易
- 用途/実績例
- ・高粘度スラリー（流動性のあるスラリー） ・高濃度スラリー ・化学品（カーボンスラリー、フィラー混合、接着剤等） ・電子材料（LIBスラリー、MLCCスラリー等） ※MHD2000シリーズの実績例
SDGsに貢献！CMC溶解用「省エネ」連続生産システム
- 概要
- ■ひとつの機械で3つのプロセスステップ: ミキシング / ホモジナイジング / ディスパージング ■完全な連続操作 ■高い固形分濃度が1パスで可能 (最大 80%、但し、製品に依る) ■プロセスに応じた各種ミキシングツール ■3段の分散レベルを組み込むことにより、ファインな粒子径が得られる ■湿式粉砕プロセスに適している ■固体の輸送による追加のエアー噛みがない ■高粘度にも対応 ■ダスト及び溶剤放出を防ぐ密閉システム ■粒子毎のウェッティングにより凝集防止 ■まとめて取り扱うので原材料のロスがない ■生産時間の大幅な短縮 ■原材料の破壊により投入要求の減少 ■コンパクトデザイン ■MHDラボ機から生産機へのスケールアップが容易
- 用途/実績例
- ・高粘度スラリー（流動性のあるスラリー） ・高濃度スラリー ・化学品（カーボンスラリー、フィラー混合、接着剤等） ・電子材料（LIBスラリー、MLCCスラリー等） ※MHD2000シリーズの実績例
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IKAジャパン株式会社
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