粉末 - 企業ランキング(全45社)

更新日：2025年09月24日集計期間:2025年08月27日〜2025年09月23日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
日本NER株式会社	所在地鳥取県従業員数 5 事業内容【事業ミッションと展開方針】１．先端産業向け必須材料の調達・供給　　1) 日本の先端科学技術開発に資する研究開発用材料の調達・供給　　＜重点取扱分野＞　　　＊次世代電池材料　　　＊パワー半導体材料　　　＊放熱材料　　　＊３Ｄプリンター材料　　　＊ＥＶ軽量化材料　　　＊高機能セラミック材料　　　＊高機能カーボン材料　　2) 日本の先端産業の拡大発展に必須となる量産用基礎資材の調達と　　　サプライチエーンの再構築　　　＊自然災害・地政学リスクを踏まえた金属シリコン等の　　　　基礎資材のサプライチエーンの多角化２．シリコン材料の研究開発　　1) アモルファスシリコンのバルク製造　　　＊ＬｉＢ負極用材料として　　2) シリコンスラッジ活用の高付加価値化　　　＊脱酸素剤を超える用途開発３．工場建設コンサルティング・技術支援　　　＊金属シリコン製造工場　　　＊フェロシリコン製造工場　　　＊シリコン粉末製造工場主要取引先 <仕入先> ＊金属シリコン・冶金法ポリシリコン　・中国・タイ等の製造メーカー＊シリコン(Si)粉末　・中国・台湾・韓国等の製造メーカー＊一酸化ケイ素(SiO)粉末　・中国製造メーカー＊窒化ケイ素(Si3N4)粉末　・中国製造メーカー＊炭化ケイ素(SiC)チャンク・粉末　・フランス・中国・台湾製造メーカー＊シリコン(Si)スラッジ　・日本・中国・台湾製造メーカー＊ベースメタル・レアメタル・レアアース　・中国製造メーカー＊セラミックス　・日本・中国メーカー＊カーボン　・日本・中国・アメリカ製造メーカー <販売先> ＊シリコン（Si）/一酸化ケイ素(SiO)/窒化ケイ素(Si3N4)/炭化ケイ素（SiC）　等、シリコン系列　・日本の大手製造メーカー・商社・大学・国地方研究開発機関等、　　２５０社・機関以上　・中国・韓国・台湾等のメーカー・商社（OUT→OUT販売）＊ベースメタル・レアメタル・レアアース　・日本の大手製造メーカー・商社・大学・国地方研究開発機関等、　５０社・機関以上＊セラミックス・日本の大手製造メーカー・商社・大学・国地方研究開発機関等、　３０社・機関以上＊カーボン・日本の大手製造メーカー・商社・大学・国地方研究開発機関等、　３０社・機関以上	粒度・材料指定可シリコン（Si）粉末 ~ 1万円	■ボールミルによる粉砕事例＜材料：金属シリコン：粉砕粒度D50=8.107μｍの事例＞　　Si(％)純度　＞９９．０％　　Fe（ｐｐｍ）２，8００　　Al （ｐｐｍ）１，９００　　Ca（ｐｐｍ）　１００＊量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。＊保証スペックについては、契約により定めます。＊粒子径は、D50=５μｍ～５０μｍの範囲でご指定頂けます。＊この範囲を超える場合でも、御相談により、数ミリ～サブミクロンまで対応いたします。＊粒度分布規制につきましても、超音波篩（ふるい）を使用して対応します。ご相談下さい。	＜汎用品＞　・耐火煉瓦用原料及び不定形耐火物用原料　・アルミニウム合金及び特殊合金用原料　・窒化珪素用原料　・製鋼用脱酸剤配合用原料＜高純度品＞　・ポリシリコン製造原料　・ファインセラミックス出発原料　・リチウムイオン電池負極材料＊粉砕粒度は、それぞれの用途により、指定を承ります。
		4N超高純度シリコン（Si）粉末 ~ 1万円	■製品スペック材料：シーメンス法バージンポリシリコン（6N以上）粉砕後不純物濃度 Fe=2.2ppm Al=0.36ppm Ca=6.3ppm 25元素不純物濃度合計=20.21ppm（GDMS分析） → Si+Others > 99.9979% C/O濃度測定（IGA分析） C=22ppm O=0.29% 粒度（レーザー回析・散乱法） D10=1.159 µm D50=4.586µm D90=8.653µｍ＊量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。＊保証スペックについては、契約にて定めます。	＜汎用品＞　・耐火煉瓦用原料及び不定形耐火物用原料　・アルミニウム合金及び特殊合金用原料　・窒化珪素用原料　・製鋼用脱酸剤配合用原料＜高純度品＞　・ポリシリコン製造原料　・ファインセラミックス出発原料　・リチウムイオン電池負極材料＊粉砕粒度は、それぞれの用途により、指定を承ります。
		シリコン（Si）粉末 ~ 1万円	【カスタマイズ可能範囲】 ◎材料：シーメンス法バージンポリシリコン（4N）　　　　金属冶金法ポリシリコン（3N／4N）　　　　金属シリコン（2N／3N）　　　　P／Bドープインゴット（4N） ◎化学成分：Si純度　2N～4N 　　　　　　個別の金属不純物濃度※上限値指定　　　　　　ドーピング元素（B／P／Ge／As等）濃度※上限値指定　　　　　　酸素濃度※管理上限濃度協議 ◎粒子径：D50指定※D10、D90指定協議 ※「超微粉末」のカスタマイズ可能範囲は開発途上のため、ニーズに合わせ研究を進めます。
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日本NER株式会社

所在地

鳥取県

従業員数

5

事業内容

【事業ミッションと展開方針】１．先端産業向け必須材料の調達・供給　　1) 日本の先端科学技術開発に資する研究開発用材料の調達・供給　　＜重点取扱分野＞　　　＊次世代電池材料　　　＊パワー半導体材料　　　＊放熱材料　　　＊３Ｄプリンター材料　　　＊ＥＶ軽量化材料　　　＊高機能セラミック材料　　　＊高機能カーボン材料　　2) 日本の先端産業の拡大発展に必須となる量産用基礎資材の調達と　　　サプライチエーンの再構築　　　＊自然災害・地政学リスクを踏まえた金属シリコン等の　　　　基礎資材のサプライチエーンの多角化２．シリコン材料の研究開発　　1) アモルファスシリコンのバルク製造　　　＊ＬｉＢ負極用材料として　　2) シリコンスラッジ活用の高付加価値化　　　＊脱酸素剤を超える用途開発３．工場建設コンサルティング・技術支援　　　＊金属シリコン製造工場　　　＊フェロシリコン製造工場　　　＊シリコン粉末製造工場

主要取引先

<仕入先> ＊金属シリコン・冶金法ポリシリコン　・中国・タイ等の製造メーカー＊シリコン(Si)粉末　・中国・台湾・韓国等の製造メーカー＊一酸化ケイ素(SiO)粉末　・中国製造メーカー＊窒化ケイ素(Si3N4)粉末　・中国製造メーカー＊炭化ケイ素(SiC)チャンク・粉末　・フランス・中国・台湾製造メーカー＊シリコン(Si)スラッジ　・日本・中国・台湾製造メーカー＊ベースメタル・レアメタル・レアアース　・中国製造メーカー＊セラミックス　・日本・中国メーカー＊カーボン　・日本・中国・アメリカ製造メーカー <販売先> ＊シリコン（Si）/一酸化ケイ素(SiO)/窒化ケイ素(Si3N4)/炭化ケイ素（SiC）　等、シリコン系列　・日本の大手製造メーカー・商社・大学・国地方研究開発機関等、　　２５０社・機関以上　・中国・韓国・台湾等のメーカー・商社（OUT→OUT販売）＊ベースメタル・レアメタル・レアアース　・日本の大手製造メーカー・商社・大学・国地方研究開発機関等、　５０社・機関以上＊セラミックス・日本の大手製造メーカー・商社・大学・国地方研究開発機関等、　３０社・機関以上＊カーボン・日本の大手製造メーカー・商社・大学・国地方研究開発機関等、　３０社・機関以上

代表製品

粒度・材料指定可シリコン（Si）粉末

概要

■ボールミルによる粉砕事例＜材料：金属シリコン：粉砕粒度D50=8.107μｍの事例＞　　Si(％)純度　＞９９．０％　　Fe（ｐｐｍ）２，8００　　Al （ｐｐｍ）１，９００　　Ca（ｐｐｍ）　１００＊量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。＊保証スペックについては、契約により定めます。＊粒子径は、D50=５μｍ～５０μｍの範囲でご指定頂けます。＊この範囲を超える場合でも、御相談により、数ミリ～サブミクロンまで対応いたします。＊粒度分布規制につきましても、超音波篩（ふるい）を使用して対応します。ご相談下さい。

用途/実績例

＜汎用品＞　・耐火煉瓦用原料及び不定形耐火物用原料　・アルミニウム合金及び特殊合金用原料　・窒化珪素用原料　・製鋼用脱酸剤配合用原料＜高純度品＞　・ポリシリコン製造原料　・ファインセラミックス出発原料　・リチウムイオン電池負極材料＊粉砕粒度は、それぞれの用途により、指定を承ります。

4N超高純度シリコン（Si）粉末

概要

■製品スペック材料：シーメンス法バージンポリシリコン（6N以上）粉砕後不純物濃度 Fe=2.2ppm Al=0.36ppm Ca=6.3ppm 25元素不純物濃度合計=20.21ppm（GDMS分析） → Si+Others > 99.9979% C/O濃度測定（IGA分析） C=22ppm O=0.29% 粒度（レーザー回析・散乱法） D10=1.159 µm D50=4.586µm D90=8.653µｍ＊量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。＊保証スペックについては、契約にて定めます。

用途/実績例

＜汎用品＞　・耐火煉瓦用原料及び不定形耐火物用原料　・アルミニウム合金及び特殊合金用原料　・窒化珪素用原料　・製鋼用脱酸剤配合用原料＜高純度品＞　・ポリシリコン製造原料　・ファインセラミックス出発原料　・リチウムイオン電池負極材料＊粉砕粒度は、それぞれの用途により、指定を承ります。

シリコン（Si）粉末

概要

【カスタマイズ可能範囲】 ◎材料：シーメンス法バージンポリシリコン（4N）　　　　金属冶金法ポリシリコン（3N／4N）　　　　金属シリコン（2N／3N）　　　　P／Bドープインゴット（4N） ◎化学成分：Si純度　2N～4N 　　　　　　個別の金属不純物濃度※上限値指定　　　　　　ドーピング元素（B／P／Ge／As等）濃度※上限値指定　　　　　　酸素濃度※管理上限濃度協議 ◎粒子径：D50指定※D10、D90指定協議 ※「超微粉末」のカスタマイズ可能範囲は開発途上のため、ニーズに合わせ研究を進めます。

用途/実績例
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事業内容

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