蒸着装置 - 企業ランキング(全31社)
更新日: 集計期間:2025年03月26日〜2025年04月22日
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会社名 | 代表製品 | ||
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製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
![]() 研究開発用真空蒸着装置
応相談 |
【その他の特長】 ■コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型 ・電子銃蒸発源により酸化膜や高融点金属の成膜に対応 ・本格的な薄膜デバイスの研究開発・試作が可能 ・複数タイプのイオンプレーティング機構も装備可能 ・半導体・電子デバイスから新素材・表面処理用途まで幅広い用途で実績豊富 ■全手動で抵抗加熱源を基本構成とした簡易実験型 ・基板の高温加熱機構や水冷機構、またはリフトオフプロセス対応など 豊富なオプションをご用意 | 【用途】 ■大学・公的研究機関や基礎実験用 など | |
![]() ウェハプロセス用真空蒸着装置
応相談 |
【その他の特長】 ■研摩後の薄ウェハのハンドリングに配慮した基板ドームや 電極膜の合金化を成膜と同時に行う高温加熱機能など豊富な選択機構 ■多様なご要求に細やかにお答え可能 | 【用途】 ■ウェハプロセス用真空蒸着 | |
標準2元の抵抗加熱蒸発源を装備した全手動型蒸着装置。 Φ2~3インチウェハから特殊基板まで柔軟に対応。 蒸発源追加、同時蒸着、基板冷却・高温加熱機構等豊富なオプション 社内デモ機にてサンプルテスト対応 | 大学・公的研究機関での研究用 化合物半導体研究開発 金属表面処理 電子材料研究 | ||
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- 代表製品
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研究開発用真空蒸着装置
- 概要
- 【その他の特長】 ■コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型 ・電子銃蒸発源により酸化膜や高融点金属の成膜に対応 ・本格的な薄膜デバイスの研究開発・試作が可能 ・複数タイプのイオンプレーティング機構も装備可能 ・半導体・電子デバイスから新素材・表面処理用途まで幅広い用途で実績豊富 ■全手動で抵抗加熱源を基本構成とした簡易実験型 ・基板の高温加熱機構や水冷機構、またはリフトオフプロセス対応など 豊富なオプションをご用意
- 用途/実績例
- 【用途】 ■大学・公的研究機関や基礎実験用 など
ウェハプロセス用真空蒸着装置
- 概要
- 【その他の特長】 ■研摩後の薄ウェハのハンドリングに配慮した基板ドームや 電極膜の合金化を成膜と同時に行う高温加熱機能など豊富な選択機構 ■多様なご要求に細やかにお答え可能
- 用途/実績例
- 【用途】 ■ウェハプロセス用真空蒸着
簡易実験用蒸着装置(EM-645型)
- 概要
- 標準2元の抵抗加熱蒸発源を装備した全手動型蒸着装置。 Φ2~3インチウェハから特殊基板まで柔軟に対応。 蒸発源追加、同時蒸着、基板冷却・高温加熱機構等豊富なオプション 社内デモ機にてサンプルテスト対応
- 用途/実績例
- 大学・公的研究機関での研究用 化合物半導体研究開発 金属表面処理 電子材料研究
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