蒸着装置 - 企業ランキング(全42社)
更新日: 集計期間:2025年11月12日〜2025年12月09日
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| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
研究開発用真空蒸着装置
応相談 |
【その他の特長】 ■コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型 ・電子銃蒸発源により酸化膜や高融点金属の成膜に対応 ・本格的な薄膜デバイスの研究開発・試作が可能 ・複数タイプのイオンプレーティング機構も装備可能 ・半導体・電子デバイスから新素材・表面処理用途まで幅広い用途で... | 【用途】 ■大学・公的研究機関や基礎実験用 など | |
ウェハプロセス用真空蒸着装置
応相談 |
【その他の特長】 ■研摩後の薄ウェハのハンドリングに配慮した基板ドームや 電極膜の合金化を成膜と同時に行う高温加熱機能など豊富な選択機構 ■多様なご要求に細やかにお答え可能 | 【用途】 ■ウェハプロセス用真空蒸着 | |
| 6連式電子銃と移動式多元抵抗加熱蒸発源を装備したバッチ式高真空蒸着装置 標準ウェハプロセス対応蒸着装置よりチャンバ径をコンパクト化し小径ウェハに対応。 リフトオフプロセスに対応した垂直蒸着用の公転ドームと大量処理用の3面プラネタリー自公転ドームの切替使用が可能。 基板加熱ヒ... | 光通信用レーザー素子電極形成 赤外線レーザー素子電極形成 マイクロ波IC電極形成 MEMSデバイス電極・各種薄膜形成 | ||
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- 代表製品
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研究開発用真空蒸着装置
- 概要
- 【その他の特長】 ■コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型 ・電子銃蒸発源により酸化膜や高融点金属の成膜に対応 ・本格的な薄膜デバイスの研究開発・試作が可能 ・複数タイプのイオンプレーティング機構も装備可能 ・半導体・電子デバイスから新素材・表面処理用途まで幅広い用途で...
- 用途/実績例
- 【用途】 ■大学・公的研究機関や基礎実験用 など
ウェハプロセス用真空蒸着装置
- 概要
- 【その他の特長】 ■研摩後の薄ウェハのハンドリングに配慮した基板ドームや 電極膜の合金化を成膜と同時に行う高温加熱機能など豊富な選択機構 ■多様なご要求に細やかにお答え可能
- 用途/実績例
- 【用途】 ■ウェハプロセス用真空蒸着
化合物半導体用蒸着装置(AAMF-C1650SPB型)
- 概要
- 6連式電子銃と移動式多元抵抗加熱蒸発源を装備したバッチ式高真空蒸着装置 標準ウェハプロセス対応蒸着装置よりチャンバ径をコンパクト化し小径ウェハに対応。 リフトオフプロセスに対応した垂直蒸着用の公転ドームと大量処理用の3面プラネタリー自公転ドームの切替使用が可能。 基板加熱ヒ...
- 用途/実績例
- 光通信用レーザー素子電極形成 赤外線レーザー素子電極形成 マイクロ波IC電極形成 MEMSデバイス電極・各種薄膜形成
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神港精機株式会社 東京支店