露光装置 - 企業ランキング(全35社)
更新日: 集計期間:2026年08月12日〜2026年09月08日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
|---|---|---|---|
| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【主な特徴】 ○g/h/i/248mm及びブロード光対応 ○露光エリア□10mm/25ショット □5mm/100ショット ○レジスト透過率測定機能搭載 ○アウトガス捕集、自動搬送 【その他の特徴】 ○UVES-2000(g/h/i/248nmおよ... | |||
| 【主な特徴】 ○g/h/i/248mm及びブロード光対応 ○露光エリア□10mm/25ショット □5mm/100ショット ○レジスト透過率測定機能搭載 ○アウトガス捕集、自動搬送 【その他の特徴】 ○ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。 ... | |||
| 【主な特徴】 ●Energetiq Technology社製EQ-10 EUV Sourceを搭載 ●EUV(13.5nm)露光が可能 | |||
|
---
--- |
--- | --- | |
-
- 代表製品
-
フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズ
- 概要
- 【主な特徴】 ○g/h/i/248mm及びブロード光対応 ○露光エリア□10mm/25ショット □5mm/100ショット ○レジスト透過率測定機能搭載 ○アウトガス捕集、自動搬送 【その他の特徴】 ○UVES-2000(g/h/i/248nmおよ...
- 用途/実績例
フォトプロセス解析露光装置 ES-3500LP
- 概要
- 【主な特徴】 ○g/h/i/248mm及びブロード光対応 ○露光エリア□10mm/25ショット □5mm/100ショット ○レジスト透過率測定機能搭載 ○アウトガス捕集、自動搬送 【その他の特徴】 ○ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。 ...
- 用途/実績例
レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000
- 概要
- 【主な特徴】 ●Energetiq Technology社製EQ-10 EUV Sourceを搭載 ●EUV(13.5nm)露光が可能
- 用途/実績例
-
すべてを閲覧するには会員登録(無料)が必要です。
すでに会員の方はこちら
リソテックジャパン株式会社