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エッチング装置 - 企業ランキング(全5社)

更新日: 集計期間:2025年03月26日〜2025年04月22日
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会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
VPE-4Fは、MEMSプロセスにおける自立デバイス形成時の犠牲層(Si)エッチングを主目的とするXeF2エッチング装置です。完全ドライプロセスであるため、ウエットプロセスで問題となるスティクション(張り付き)の発生を抑制することが可能です。また、研究開発用途向けであるため、卓上型で非常にコンパクトな設計になっています。 ●MEMSプロセスにおける自立デバイス形成時の犠牲層(Si)エッチング
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  1. 代表製品
    ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置
    概要
    VPE-4Fは、MEMSプロセスにおける自立デバイス形成時の犠牲層(Si)エッチングを主目的とするXeF2エッチング装置です。完全ドライプロセスであるため、ウエットプロセスで問題となるスティクション(張り付き)の発生を抑制することが可能です。また、研究開発用途向けであるため、卓上型で非常にコンパクトな設計になっています。
    用途/実績例
    ●MEMSプロセスにおける自立デバイス形成時の犠牲層(Si)エッチング