ガスフィルタ - 企業ランキング(全10社)
更新日： 集計期間:2026年08月19日〜2026年09月15日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| [流量] 0～300Ｌ/ｍｉｎ [フィルターメディア] PTFE [その他材質] フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度 [最大使用温度] 121℃ [最大使用圧力] 5.16MPa ... | ・Point-of-use半導体特殊ガスろ過 ・不活性ガスおよび特殊ガスの供給 ・大流量超高純度不活性ガスおよび特殊ガス ・半導体、TFTフラットパネルディスプレイ、シリコンウエハー製造、太陽光発電/ソーラープロセスガス | ||
| [流量] 0～300Ｌ/ｍｉｎ [フィルターメディア] PTFE [その他材質] フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度 [最大使用温度] 121℃ [最大使用圧力] 5.16MPa ... | ・Point-of-use半導体特殊ガスろ過 ・不活性ガスおよび特殊ガスの供給 ・大流量超高純度不活性ガスおよび特殊ガス ・半導体、TFTフラットパネルディスプレイ、シリコンウエハー製造、太陽光発電/ソーラープロセスガス | ||
| [流量] 0～700Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフ... | ・半導体、フラットパネルディスプレイ、およびその他の高純度用途向けの一般およびプロセス用不活性ガス ・基板アニール等、クリティカルなフラットパネルプロセスに使用されるガス ・フロントオープニングユニファイドポッド（FOUP）の洗浄や露光を含む重要なプロセス用のクリーンドライエ... | ||
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エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 コンポーネンツ機器部
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- 代表製品
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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1800
- 概要
- [流量] 0～300Ｌ/ｍｉｎ [フィルターメディア] PTFE [その他材質] フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度 [最大使用温度] 121℃ [最大使用圧力] 5.16MPa ...
- 用途/実績例
- ・Point-of-use半導体特殊ガスろ過 ・不活性ガスおよび特殊ガスの供給 ・大流量超高純度不活性ガスおよび特殊ガス ・半導体、TFTフラットパネルディスプレイ、シリコンウエハー製造、太陽光発電/ソーラープロセスガス
GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1800
- 概要
- [流量] 0～300Ｌ/ｍｉｎ [フィルターメディア] PTFE [その他材質] フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度 [最大使用温度] 121℃ [最大使用圧力] 5.16MPa ...
- 用途/実績例
- ・Point-of-use半導体特殊ガスろ過 ・不活性ガスおよび特殊ガスの供給 ・大流量超高純度不活性ガスおよび特殊ガス ・半導体、TFTフラットパネルディスプレイ、シリコンウエハー製造、太陽光発電/ソーラープロセスガス
GasPro PTFE ガスフィルター TEM-500シリーズ
- 概要
- [流量] 0～700Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフ...
- 用途/実績例
- ・半導体、フラットパネルディスプレイ、およびその他の高純度用途向けの一般およびプロセス用不活性ガス ・基板アニール等、クリティカルなフラットパネルプロセスに使用されるガス ・フロントオープニングユニファイドポッド（FOUP）の洗浄や露光を含む重要なプロセス用のクリーンドライエ...
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エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 コンポーネンツ機器部
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