ガスフィルタ - 企業ランキング(全10社)

更新日：2026年06月17日集計期間:2026年05月20日〜2026年06月16日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社コンポーネンツ機器部	所在地東京都従業員数 20 事業内容圧力計測機器/制御機器の輸入仕入・製造・販売流量計測機器/制御機器の輸入仕入・製造・販売ガスフィルターの輸入仕入・販売その他ガス/液体用の計測/制御機器の輸入仕入・製造・販売主要取引先	GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-200シリーズ応相談	[流量] 0～5700Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクル...	・半導体、フラットパネルディスプレイ、およびその他の高純度用途向けの一般およびプロセス用不活性ガス・基板アニール等、クリティカルなフラットパネルプロセスに使用されるガス・フロントオープニングユニファイドポッド（FOUP）の洗浄や露光を含む重要なプロセス用のクリーンドライエ...
		GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-500シリーズ応相談	[流量] 0～700Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフ...	・半導体、フラットパネルディスプレイ、およびその他の高純度用途向けの一般およびプロセス用不活性ガス・基板アニール等、クリティカルなフラットパネルプロセスに使用されるガス・フロントオープニングユニファイドポッド（FOUP）の洗浄や露光を含む重要なプロセス用のクリーンドライエ...
		GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-400シリーズ応相談	[流量] 0～2100Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクル...	・半導体、フラットパネルディスプレイ、およびその他の高純度用途向けの一般およびプロセス用不活性ガス・基板アニール等、クリティカルなフラットパネルプロセスに使用されるガス・フロントオープニングユニファイドポッド（FOUP）の洗浄や露光を含む重要なプロセス用のクリーンドライエ...
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エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社コンポーネンツ機器部

所在地

東京都

従業員数

20

事業内容

圧力計測機器/制御機器の輸入仕入・製造・販売流量計測機器/制御機器の輸入仕入・製造・販売ガスフィルターの輸入仕入・販売その他ガス/液体用の計測/制御機器の輸入仕入・製造・販売

主要取引先

代表製品

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-200シリーズ

概要

[流量] 0～5700Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクル...

用途/実績例

・半導体、フラットパネルディスプレイ、およびその他の高純度用途向けの一般およびプロセス用不活性ガス・基板アニール等、クリティカルなフラットパネルプロセスに使用されるガス・フロントオープニングユニファイドポッド（FOUP）の洗浄や露光を含む重要なプロセス用のクリーンドライエ...

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-500シリーズ

概要

[流量] 0～700Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフ...

用途/実績例

・半導体、フラットパネルディスプレイ、およびその他の高純度用途向けの一般およびプロセス用不活性ガス・基板アニール等、クリティカルなフラットパネルプロセスに使用されるガス・フロントオープニングユニファイドポッド（FOUP）の洗浄や露光を含む重要なプロセス用のクリーンドライエ...

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-400シリーズ

概要

[流量] 0～2100Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクル...

用途/実績例

・半導体、フラットパネルディスプレイ、およびその他の高純度用途向けの一般およびプロセス用不活性ガス・基板アニール等、クリティカルなフラットパネルプロセスに使用されるガス・フロントオープニングユニファイドポッド（FOUP）の洗浄や露光を含む重要なプロセス用のクリーンドライエ...
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所在地

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事業内容

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