テンプレート - 企業ランキング(全15社)

更新日：2025年07月30日集計期間:2025年07月02日〜2025年07月29日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
株式会社同人産業	所在地大阪府従業員数 5 事業内容【結晶材料】　シリコン、サファイア、SiC、GaN、GaAs、CaF2、MgF2、LiF、LiNbO3（LN）、LiTaO3（LT）、水晶、YAG、LBO、BBO、その他特殊結晶【Epiウェハー・MOCVD］　GaN on Sapphire、GaN on Silicon、GaN on SiC、GaN on GaN、GaN on GaAs 【光学ガラス】　合成石英、溶融石英、テンパクス、パイレックス、イーグルXG、D263、BK7、白板、青板、導電性ガラス【セラミックス】　アルミナ、炭化ケイ素（焼結SiC）、窒化ケイ素、AlN、BN、PBN、B4C 【ウェハーケース】　種類：カセットケース、シングルケース、洗浄ケース、マスクケース、ウェハーリングBOX 【研磨材】　種類：ダイヤモンドパウダー、炭化ホウ素（B4C）パウダー、アルミナパウダー、他【機械設備】　種類：マルチワイヤソー、シングルワイヤソー、研削装置、研磨装置、他　消耗品：ダイヤモンドワイヤー、鋳鉄定盤、鋳鉄修正リング、金属キャリア主要取引先東京エレクトロン株式会社株式会社ディスコ豊田通商株式会社信越化学工業株式会社住友電気工業株式会社株式会社アルバック三井金属鉱業株式会社株式会社神戸製鋼所株式会社ジェイテクトヒメジ理化株式会社日亜化学工業株式会社巴工業株式会社小西安株式会社株式会社東京ダイヤモンド工具製作所東京大学東京工業大学京都大学大阪大学名古屋大学東北大学九州大学北海道大学横浜大学慶應義塾大学早稲田大学立命館大学その他多数	GaNテンプレート（窒化ガリウム、ガリウムナイトライド）応相談	サイズ：Φ2”、Φ3”、Φ4”、Φ6” GaNエピ膜厚み：3μm、4μm、指定可能結晶構造：GaN膜・オン・サファイア基板転位密度≦ 5x106/ cm2 XRD：（002）≦ 250arsec、（102）≦300arsec 導電タイプ：N-type、P-type、Semi-Insulating 抵抗率：<0.05 Ω・cm、>1E6 Ω・cm、他その他：ご相談の上	LED分野 LD分野パワーデバイス分野他
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株式会社同人産業

所在地

大阪府

従業員数

5

事業内容

【結晶材料】　シリコン、サファイア、SiC、GaN、GaAs、CaF2、MgF2、LiF、LiNbO3（LN）、LiTaO3（LT）、水晶、YAG、LBO、BBO、その他特殊結晶【Epiウェハー・MOCVD］　GaN on Sapphire、GaN on Silicon、GaN on SiC、GaN on GaN、GaN on GaAs 【光学ガラス】　合成石英、溶融石英、テンパクス、パイレックス、イーグルXG、D263、BK7、白板、青板、導電性ガラス【セラミックス】　アルミナ、炭化ケイ素（焼結SiC）、窒化ケイ素、AlN、BN、PBN、B4C 【ウェハーケース】　種類：カセットケース、シングルケース、洗浄ケース、マスクケース、ウェハーリングBOX 【研磨材】　種類：ダイヤモンドパウダー、炭化ホウ素（B4C）パウダー、アルミナパウダー、他【機械設備】　種類：マルチワイヤソー、シングルワイヤソー、研削装置、研磨装置、他　消耗品：ダイヤモンドワイヤー、鋳鉄定盤、鋳鉄修正リング、金属キャリア

主要取引先

東京エレクトロン株式会社株式会社ディスコ豊田通商株式会社信越化学工業株式会社住友電気工業株式会社株式会社アルバック三井金属鉱業株式会社株式会社神戸製鋼所株式会社ジェイテクトヒメジ理化株式会社日亜化学工業株式会社巴工業株式会社小西安株式会社株式会社東京ダイヤモンド工具製作所東京大学東京工業大学京都大学大阪大学名古屋大学東北大学九州大学北海道大学横浜大学慶應義塾大学早稲田大学立命館大学その他多数

代表製品

GaNテンプレート（窒化ガリウム、ガリウムナイトライド）

概要

サイズ：Φ2”、Φ3”、Φ4”、Φ6” GaNエピ膜厚み：3μm、4μm、指定可能結晶構造：GaN膜・オン・サファイア基板転位密度≦ 5x106/ cm2 XRD：（002）≦ 250arsec、（102）≦300arsec 導電タイプ：N-type、P-type、Semi-Insulating 抵抗率：<0.05 Ω・cm、>1E6 Ω・cm、他その他：ご相談の上

用途/実績例

LED分野 LD分野パワーデバイス分野他
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所在地

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事業内容

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