プラズマCVD装置 - 企業ランキング(全10社)

更新日：2025年10月22日集計期間:2025年09月24日〜2025年10月21日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
サムコ株式会社	所在地京都府従業員数 170 事業内容半導体等電子部品の製造・販売を行っています。最先端の薄膜形成用プラズマCVD装置やドライエッチング装置、ドライ洗浄装置を製造・販売しており、世界中の生産現場や研究者の皆様へ提供しています。主要取引先大手電子部品メーカー大学・官庁・研究機関	SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置応相談	PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。	● 光導波路など光学部品の製造 ● マイクロマシーンのマスク形成 ● プラスチック材料の保護膜の形成 ● 高アスペクト比段差への被膜
		【資料】ノンボッシュプロセスを用いたシリコン加工データ応相談
		プラズマCVD装置応相談	PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでのパッシベーション膜や層間...	● パッシベーション膜としてのシリコン窒化膜の形成 ● 層間絶縁膜としてのシリコン酸化膜の形成 ● アニールキャップ膜の形成
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サムコ株式会社

所在地

京都府

従業員数

170

事業内容

半導体等電子部品の製造・販売を行っています。最先端の薄膜形成用プラズマCVD装置やドライエッチング装置、ドライ洗浄装置を製造・販売しており、世界中の生産現場や研究者の皆様へ提供しています。

主要取引先

大手電子部品メーカー大学・官庁・研究機関

代表製品

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

概要

PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。

用途/実績例

● 光導波路など光学部品の製造 ● マイクロマシーンのマスク形成 ● プラスチック材料の保護膜の形成 ● 高アスペクト比段差への被膜

【資料】ノンボッシュプロセスを用いたシリコン加工データ

概要

用途/実績例

プラズマCVD装置

概要

PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでのパッシベーション膜や層間...

用途/実績例

● パッシベーション膜としてのシリコン窒化膜の形成 ● 層間絶縁膜としてのシリコン酸化膜の形成 ● アニールキャップ膜の形成
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所在地

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事業内容

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