プラズマCVD装置 - Company Ranking(11 companies in total)
Last Updated： Aggregation Period:2026年09月02日〜2026年09月29日
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Display Company Information
| Company Name | Featured Products | ||
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| Product Image, Product Name, Price Range | overview | Application/Performance example | |
| PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。 | ● 光導波路など光学部品の製造 ● マイクロマシーンのマスク形成 ● プラスチック材料の保護膜の形成 ● 高アスペクト比段差への被膜 | ||
プラズマCVD装置
応相談 |
PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでのパッシベーション膜や層間... | ● パッシベーション膜としてのシリコン窒化膜の形成 ● 層間絶縁膜としてのシリコン酸化膜の形成 ● アニールキャップ膜の形成 | |
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サムコ株式会社
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- Featured Products
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SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置
- overview
- PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。
- Application/Performance example
- ● 光導波路など光学部品の製造 ● マイクロマシーンのマスク形成 ● プラスチック材料の保護膜の形成 ● 高アスペクト比段差への被膜
【資料】ノンボッシュプロセスを用いたシリコン加工データ
- overview
- Application/Performance example
プラズマCVD装置
- overview
- PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでのパッシベーション膜や層間...
- Application/Performance example
- ● パッシベーション膜としてのシリコン窒化膜の形成 ● 層間絶縁膜としてのシリコン酸化膜の形成 ● アニールキャップ膜の形成
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サムコ株式会社
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