プラズマエッチング装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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プラズマエッチング装置 - 企業ランキング(全6社)

更新日: 集計期間:2026年02月18日〜2026年03月17日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
標準仕様 ステージ寸法:250mm□ エッチング方式:RIE CF系ガス標準 シンプルな機構でRIE/DPモード切替可能 ステージ温度制御(水冷/加熱)選択可能  ステージ寸法大型化(最大500mm□)対応可能  MEMSセンサーエッチング:SiN SiO2、Si 電子部品エッチング:SiO2 半導体ウェハ成膜前ライトエッチング(自然酸化膜除去) インプリントモールド厚膜レジストパターニング MEMS/半導体レジストアッシング・ディスカム
基本構成を従来型エッチング装置「SERIO」「EXAM」と互換性を持つ高密度プラズマエッチング装置。 チャンバ構造・排気系・電源構成等は従来型エッチング装置「SERIO」とも互換性を持っており、電極交換によりCuエッチング等新プロセス対応にアップグレード可能。 大型基板用にC... Cu薄膜エッチング 薄膜磁気ヘッドCuエッチング フォトマスクエッチング 高密度実装基板Cuエッチング
【仕様】 ■ハード構成:ロードロック式 ロードロック室 エッチング室各1室構成        ※量産用 マルチチャンバタイプもラインアップ ■処理基板:~φ8インチウェハ形状品(矩形基板対応可能) ■対応基板:Si、石英、セラミックス(アルミナ、AlTiC等)ガラス、      ... 【用途】 ■Si深掘り ■石英の垂直加工 ■犠牲層の形成 ■酸窒化膜 ■有機膜のエッチング など
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  1. 代表製品
    プラズマエッチング装置「EXAM」サンプルテスト受付中プラズマエッチング装置「EXAM」サンプルテスト受付中
    概要
    標準仕様 ステージ寸法:250mm□ エッチング方式:RIE CF系ガス標準 シンプルな機構でRIE/DPモード切替可能 ステージ温度制御(水冷/加熱)選択可能  ステージ寸法大型化(最大500mm□)対応可能 
    用途/実績例
    MEMSセンサーエッチング:SiN SiO2、Si 電子部品エッチング:SiO2 半導体ウェハ成膜前ライトエッチング(自然酸化膜除去) インプリントモールド厚膜レジストパターニング MEMS/半導体レジストアッシング・ディスカム
    Cuエッチング対応高密度プラズマエッチング装置Cuエッチング対応高密度プラズマエッチング装置
    概要
    基本構成を従来型エッチング装置「SERIO」「EXAM」と互換性を持つ高密度プラズマエッチング装置。 チャンバ構造・排気系・電源構成等は従来型エッチング装置「SERIO」とも互換性を持っており、電極交換によりCuエッチング等新プロセス対応にアップグレード可能。 大型基板用にC...
    用途/実績例
    Cu薄膜エッチング 薄膜磁気ヘッドCuエッチング フォトマスクエッチング 高密度実装基板Cuエッチング
    ICPプラズマエッチング装置『SERIO』ICPプラズマエッチング装置『SERIO』
    概要
    【仕様】 ■ハード構成:ロードロック式 ロードロック室 エッチング室各1室構成        ※量産用 マルチチャンバタイプもラインアップ ■処理基板:~φ8インチウェハ形状品(矩形基板対応可能) ■対応基板:Si、石英、セラミックス(アルミナ、AlTiC等)ガラス、      ...
    用途/実績例
    【用途】 ■Si深掘り ■石英の垂直加工 ■犠牲層の形成 ■酸窒化膜 ■有機膜のエッチング など