プラズマエッチング装置 - 企業ランキング(全6社)
更新日: 集計期間:2026年02月18日〜2026年03月17日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 標準仕様 ステージ寸法:250mm□ エッチング方式:RIE CF系ガス標準 シンプルな機構でRIE/DPモード切替可能 ステージ温度制御(水冷/加熱)選択可能 ステージ寸法大型化(最大500mm□)対応可能 | MEMSセンサーエッチング:SiN SiO2、Si 電子部品エッチング:SiO2 半導体ウェハ成膜前ライトエッチング(自然酸化膜除去) インプリントモールド厚膜レジストパターニング MEMS/半導体レジストアッシング・ディスカム | ||
| 基本構成を従来型エッチング装置「SERIO」「EXAM」と互換性を持つ高密度プラズマエッチング装置。 チャンバ構造・排気系・電源構成等は従来型エッチング装置「SERIO」とも互換性を持っており、電極交換によりCuエッチング等新プロセス対応にアップグレード可能。 大型基板用にC... | Cu薄膜エッチング 薄膜磁気ヘッドCuエッチング フォトマスクエッチング 高密度実装基板Cuエッチング | ||
| 【仕様】 ■ハード構成:ロードロック式 ロードロック室 エッチング室各1室構成 ※量産用 マルチチャンバタイプもラインアップ ■処理基板:~φ8インチウェハ形状品(矩形基板対応可能) ■対応基板:Si、石英、セラミックス(アルミナ、AlTiC等)ガラス、 ... | 【用途】 ■Si深掘り ■石英の垂直加工 ■犠牲層の形成 ■酸窒化膜 ■有機膜のエッチング など | ||
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- 代表製品
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プラズマエッチング装置「EXAM」サンプルテスト受付中
- 概要
- 標準仕様 ステージ寸法:250mm□ エッチング方式:RIE CF系ガス標準 シンプルな機構でRIE/DPモード切替可能 ステージ温度制御(水冷/加熱)選択可能 ステージ寸法大型化(最大500mm□)対応可能
- 用途/実績例
- MEMSセンサーエッチング:SiN SiO2、Si 電子部品エッチング:SiO2 半導体ウェハ成膜前ライトエッチング(自然酸化膜除去) インプリントモールド厚膜レジストパターニング MEMS/半導体レジストアッシング・ディスカム
Cuエッチング対応高密度プラズマエッチング装置
- 概要
- 基本構成を従来型エッチング装置「SERIO」「EXAM」と互換性を持つ高密度プラズマエッチング装置。 チャンバ構造・排気系・電源構成等は従来型エッチング装置「SERIO」とも互換性を持っており、電極交換によりCuエッチング等新プロセス対応にアップグレード可能。 大型基板用にC...
- 用途/実績例
- Cu薄膜エッチング 薄膜磁気ヘッドCuエッチング フォトマスクエッチング 高密度実装基板Cuエッチング
ICPプラズマエッチング装置『SERIO』
- 概要
- 【仕様】 ■ハード構成:ロードロック式 ロードロック室 エッチング室各1室構成 ※量産用 マルチチャンバタイプもラインアップ ■処理基板:~φ8インチウェハ形状品(矩形基板対応可能) ■対応基板:Si、石英、セラミックス(アルミナ、AlTiC等)ガラス、 ...
- 用途/実績例
- 【用途】 ■Si深掘り ■石英の垂直加工 ■犠牲層の形成 ■酸窒化膜 ■有機膜のエッチング など
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神港精機株式会社 東京支店