マスクアライナ - 企業ランキング(全6社)
更新日: 集計期間:2025年07月02日〜2025年07月29日
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企業情報を表示
会社名 | 代表製品 | ||
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製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
・対応基板サイズ 小片 5×5mm~最大φ100mm ※100×100mm対応はオプション ・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム ギャップ露光(1~300μm) オプション:フラッド露光 分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ200W, 350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性 標準:±4.0%(標準) MO Exposure Optics:±2.5%(オプション) ・アライメント方式 TSAアライメント(表面アライメント) 赤外光透過アライメント(オプション) ・オプション機能 MO Exposure Optics 小片基板用対物レンズ 赤外光透過アライメント モニター画像観察(デジタルカメラ仕様) | MEMS アドバンスドパッケージ 3次元パッケージング 化合物半導体 パワーデバイス 太陽光発電 ナノテクノロジー ウエハレベルオプティクス | ||
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- 代表製品
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SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4
- 概要
- ・対応基板サイズ 小片 5×5mm~最大φ100mm ※100×100mm対応はオプション ・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム ギャップ露光(1~300μm) オプション:フラッド露光 分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ200W, 350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性 標準:±4.0%(標準) MO Exposure Optics:±2.5%(オプション) ・アライメント方式 TSAアライメント(表面アライメント) 赤外光透過アライメント(オプション) ・オプション機能 MO Exposure Optics 小片基板用対物レンズ 赤外光透過アライメント モニター画像観察(デジタルカメラ仕様)
- 用途/実績例
- MEMS アドバンスドパッケージ 3次元パッケージング 化合物半導体 パワーデバイス 太陽光発電 ナノテクノロジー ウエハレベルオプティクス
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